최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2013-0108348 (2013-09-10) | |
등록번호 | 10-1492909-0000 (2015-02-06) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130108348 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2013-09-10) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 또는 원자층증착법(Atomic Layer Deposition, ALD)으로 성장된 그래핀을 기재 필름에 전사(transfer)하고, 상기 그래핀이 전사된 상기 기재 필름의 표면에 투명 접착제를 코팅한 후 감압 또는 경화하여 투명 접착제 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 투명 열전도성 필름의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 제조 방법에 의하여 제조되는 투명 열전도성 필름은 투명성과 열전도성이 우수하므로 방열재료로 유용하게 사용될 수 있으며, 나아가 방열
(a) 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 또는 원자층증착법(Atomic Layer Deposition, ALD)으로 성장된 그래핀을 기재 필름에 전사(transfer)하는 단계; 및(b) 상기 그래핀이 전사된 상기 기재 필름의 표면에 투명 접착제를 코팅한 후 감압 또는 경화하여 투명 접착제 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 투명 접착제는 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 디에틸렌 글라이콜 디아크릴레이트 및 폴리에틸렌글라이콜 디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 또는 둘 이상
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.