[특허]폴리이미드 기판의 제조 방법 및 이를 이용하는 표시장치의 제조 방법

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폴리이미드 기판의 제조 방법 및 이를 이용하는 표시장치의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	G09F-009/00
출원번호	10-2013-0111388 (2013-09-16)
공개번호	10-2015-0032388 (2015-03-26)
등록번호	10-2115561-0000 (2020-05-20)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020130111388
발명자 / 주소	카차트리안, 하이크 / 경기 화성시 석우동 예당마을대우푸르지오아파트 구현우 / 경기도 화성시 영통로번길 *동 호 (반월동,두산위브아파트) 김선호 / 경기도 성남시 분당구 성남대로 B동 호 (정자동,삼성아데나팰리스아파트) 김태웅 / 경기도 용인시 수지구 푸른솔로 *동 호 (죽전동,현대홈타운차*단지아파트)
출원인 / 주소	삼성디스플레이 주식회사 / 경기도 용인시 기흥구 삼성로 * (농서동)
대리인 / 주소	특허법인 고려
심사청구여부	있음 (2018-09-14)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	소멸

초록

글라스 기판에 산 용액을 제공하여 상기 글라스 기판이 포함하는 제1 양이온을 제거하고, 상기 글라스 기판에 폴리아믹 산(polyamic acid)을 포함하는 소오스 용액을 제공한다.그 이후에, 상기 폴리아믹 산을 경화하여 상기 글라스 기판 위에 폴리이미드(polyamide) 기판을 형성하고, 상기 글라스 기판으로부터 상기 폴리이미드 기판을 분리하는 단계를 포함하는 폴리이미드 기판을 제조한다.

대표청구항 ▼

글라스 기판에 산 용액을 제공하여 상기 글라스 기판이 포함하는 제1 양이온을 제거하는 단계; 상기 제1 양이온을 제거한 이후에, 상기 제1 양이온이 제거됨에 따라 상기 글라스 기판에 생성된 공극(vacancy)에 제2 양이온을 제공하는 단계;상기 글라스 기판에 폴리아믹 산(polyamic acid)을 포함하는 소오스 용액을 제공하는 단계; 상기 폴리아믹 산을 경화하여 상기 글라스 기판 위에 폴리이미드(polyamide) 기판을 형성하는 단계; 및상기 글라스 기판으로부터 상기 폴리이미드 기판을 분리하는 단계를 포함하는 폴리이미드 기판

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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