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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-0125880 (2013-10-22) | |
공개번호 | 10-2015-0046534 (2015-04-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130125880 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-10-22) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 전지 및 마이크로웨이브 방사 처리를 통한 전지의 표면처리 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 전지는 짧은 시간 내의 마이크로웨이브 방사 처리를 통해, 이온의 전달 속도, 충·방전 속도 및 촉매 활성도를 증가시켜, 전지의 전기 전도도 및 효율을 높일 수 있다.
고분자 전해질막; 제1 전극; 및 제2 전극을 포함하고,고분자 전해질막의 일면 또는 양면에 촉매층을 포함하며,계면 저항이 0.05 내지 0.15 Ω인 전지.
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