$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C23C-014/34
  • B22D-011/04
  • C22C-009/00
  • C22F-001/08
출원번호 10-2013-7020332 (2013-07-31)
공개번호 10-2013-0094352 (2013-08-23)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2011-185591 (2011-08-29);일본(JP) JP-P-2011-255066 (2011-11-22)
국제출원번호 PCT/JP2012/067280 (2012-07-06)
국제공개번호 WO 2013/031381 (2013-03-07)
번역문제출일자 2013-07-31
DOI http://doi.org/10.8080/1020137020332
발명자 / 주소
  • 다무라 도모야 / 일본 이바라키켕 기타이바라키시 하나카와쵸 우스바 ***반치 * 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 이소하라고죠 나이
  • 사카모토 마사루 / 일본 이바라키켕 기타이바라키시 하나카와쵸 우스바 ***반치 * 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 이소하라고죠 나이
출원인 / 주소
  • 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 / 일본국 도쿄토 치요다쿠 오테마치 *초메 *반 *고
대리인 / 주소
  • 특허법인코리아나
심사청구여부 있음 (2013-07-31)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록 ▼

Ga 가 29 ∼ 42.6 at％, 잔부가 Cu 및 불가피적 불순물로 이루어지는 용해·주조한 Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃으로서, 스퍼터 표면의 평균 결정 입경이 3 ㎜ 이하이고, 타깃의 단면 조직이 스퍼터 표면으로부터 스퍼터면에 평행한 중심면의 방향으로 성장한 기둥상 조직을 갖는 것을 특징으로 하는 Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃. Cu-Ga 합금은 Ga 조성이 29 at％ 이상이 되면, 취성이 있는 γ 상 단상 조직이 된다. 그 때문에 주조로 타깃을 제작해도, 그 후에 압연, 단조 등의 공정을 실시할 수 없어, 주조 조직인 채가

대표청구항

Ga 가 29 ∼ 42.6 at％, 잔부가 Cu 및 불가피적 불순물로 이루어지는 용해·주조한 Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃으로서, 스퍼터 표면의 평균 결정 입경이 3 ㎜ 이하이고, 타깃의 단면 조직이 스퍼터 표면으로부터 스퍼터면에 평행한 중심면의 방향으로 성장한 기둥상 조직을 갖는 것을 특징으로 하는 Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 일방향 응고조직을 갖는 구리-알루미늄-니켈계 초탄성합금선재와 그의 제조방법 | 장우양, 강조원, 곽사호
    상세보기
  2. [일본] COPPER-GALLIUM ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION | HAGIWARA JUNICHIRO, AZUMA SHUICHI, TSUTSUI TSUTOMU, YOSHITOME YOICHI
    상세보기
  3. [일본] Cu-Ga ALLOY, SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING THE Cu-Ga ALLOY, AND METHOD FOR PRODUCING THE SPUTTERING TARGET | HIRAMOTO YUICHI, TONOKI TATSUYA
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 원통형 스퍼터링 타깃용 소재의 제조 방법 | 사쿠라이 아키라, 구마가이 사토시, 소노하타 다카시, 오토 미치아키
    상세보기
  2. [한국] 원통형 스퍼터링 타깃용 소재의 제조 방법 | 사쿠라이 아키라, 구마가이 사토시, 소노하타 다카시, 오토 미치아키
    상세보기

관련 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로