초록 ▼

[과제] 내열성이 우수한 필름 디바이스를 제공하는 것 및 이 필름 디바이스 작성용으로 내열성 수지층과 무기물층의 적층체를 제공한다. [해결수단] 적어도 무기층과 수지 필름으로 구성되어 이루어지는 적층체 및 이 적층체를 이용한 필름디바이스의 제조 방법으로서, (1) 무기층의 적어도 한쪽 면의 표면을 커플링제 처리하는 공정, (2) 상기 커플링제 처리된 무기층의 적어도 한쪽 면을 미리 결정한 패턴에 따라서 UV 조사 처리를 함으로써 무기층과 수지층 사이의 박리 강도가 다른 부분을 형성하는 공정, (3) 상기 패턴화한 무기층의 커플링제

[과제] 내열성이 우수한 필름 디바이스를 제공하는 것 및 이 필름 디바이스 작성용으로 내열성 수지층과 무기물층의 적층체를 제공한다. [해결수단] 적어도 무기층과 수지 필름으로 구성되어 이루어지는 적층체 및 이 적층체를 이용한 필름디바이스의 제조 방법으로서, (1) 무기층의 적어도 한쪽 면의 표면을 커플링제 처리하는 공정, (2) 상기 커플링제 처리된 무기층의 적어도 한쪽 면을 미리 결정한 패턴에 따라서 UV 조사 처리를 함으로써 무기층과 수지층 사이의 박리 강도가 다른 부분을 형성하는 공정, (3) 상기 패턴화한 무기층의 커플링제 처리면 위에 수지 용액 혹은 수지 전구체 용액을 도포하여 얻어진 도포 용액층을 건조하고, 열처리하여 상기 수지층을 형성하는 공정, 상기 (1)∼(3)의 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법 및 이 적층체를 사용하여 디바이스를 작성한 후에, 상기 무기 기판으로부터 미리 결정한 패턴에 따라서 UV 노광하는 공정에 의해, 기판에 대한 접착 박리 강도가 약한 부분을 박리함으로써 필름 디바이스의 작성을 실현한다.

대표청구항 ▼

적어도 무기층과 수지층으로 구성되어 이루어지는 적층체의 제조 방법으로서, 하기 (1)∼(3)의 공정: (1) 무기층의 적어도 한쪽 면의 표면을 커플링제 처리하는 공정(2) 상기 (1)의 공정에 의해 커플링제 처리된 무기층의 적어도 한쪽 면에, 무기층과 수지층 사이의 접착 박리 강도는 다르고 표면 거칠기는 대략 동일한 양호 접착 부분과 박리 용이 부분을 형성하는 패턴화 처리를 하는 공정(3) 상기 (2)의 공정에 의해 패턴화 처리를 실시한 무기층의 커플링제 처리면 상에 수지 용액 혹은 수지 전구체 용액을 도포하여 얻어진 도포 용액층을

적어도 무기층과 수지층으로 구성되어 이루어지는 적층체의 제조 방법으로서, 하기 (1)∼(3)의 공정: (1) 무기층의 적어도 한쪽 면의 표면을 커플링제 처리하는 공정(2) 상기 (1)의 공정에 의해 커플링제 처리된 무기층의 적어도 한쪽 면에, 무기층과 수지층 사이의 접착 박리 강도는 다르고 표면 거칠기는 대략 동일한 양호 접착 부분과 박리 용이 부분을 형성하는 패턴화 처리를 하는 공정(3) 상기 (2)의 공정에 의해 패턴화 처리를 실시한 무기층의 커플링제 처리면 상에 수지 용액 혹은 수지 전구체 용액을 도포하여 얻어진 도포 용액층을 건조하고, 이어서 열처리하여 상기 수지층을 형성하는 공정을 포함하고, 상기 패턴화 처리는, 커플링제 처리층의 일부에 불활성화 처리를 실시하여 소정의 패턴을 형성함으로써 행하고, 상기 표면 거칠기가 대략 동일하다는 것은 양호 접착 부분의 평균 표면 거칠기(Ra1)와 박리 용이 부분의 평균 표면 거칠기(Ra2)의 측정치가 이하의 식(1)을 만족하는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법:|Ra1-Ra2|÷Ra1×100≤50(1)