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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0032112 (2014-03-19) |
공개번호 | 10-2015-0109091 (2015-10-01) |
등록번호 | 10-2150507-0000 (2020-08-26) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140032112 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-07-10) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 금속 배선의 형성을 위한 다층막 식각액 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 인산 60 내지 70중량%; 질산 2 내지 8 중량%; 초산 5 내지 15 중량%; K3PO4, K2HPO4, KH2PO4, CH3CO2K 및 KNO3로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 칼륨계 화합물 0.1 내지 7중량%; 아스코르빈산(염) 0.1 내지 5중량%; 및 잔량의 물을 포함함으로써, IZO 투명전도막, 알루미늄계 금속막 및 몰리브덴계 금속막으로 이루어진 다층막을 Tip 불량 없이 미세 선폭으로 식각할 수 있는 식각액 조성물
IZO 투명전도막, 알루미늄계 금속막 및 몰리브덴계 금속막을 포함하는 다층막의 식각액 조성물로서,인산 60 내지 70중량%;질산 2 내지 8 중량%; 초산 5 내지 15 중량%;K3PO4, K2HPO4, KH2PO4, CH3CO2K 및 KNO3로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 칼륨계 화합물 0.1 내지 7중량%;상기 알루미늄계 금속막의 횡방향 식각속도 억제제로서 아스코르빈산(염) 0.1 내지 5중량%; 및잔량의 물을 포함하는, 식각액 조성물.
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