[특허]열처리를 이용한 다이아몬드 입자 표면 처리방법

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열처리를 이용한 다이아몬드 입자 표면 처리방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C30B-033/02 B01J-003/06 C01B-031/06 C23C-030/00 C30B-029/04
출원번호	10-2014-0033408 (2014-03-21)
공개번호	10-2015-0111418 (2015-10-06)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020140033408
발명자 / 주소	김미선 / 경기도 화성시 동탄중앙로 * 우남퍼스트빌 아파트 동 *호 허지인 / 인천 동구 화도진로 , 동 호 (만석동, 만석비치타운 주공아파트) 박희섭 / 경기 수원시 영통구 법조로 , 동 *호 (하동, 광교호수마을참누리레이크) 이현우 / 인천광역시 연수구 송도동 센트럴로 센트럴파크 I *동 **호
출원인 / 주소	일진다이아몬드(주) / 충청북도 음성군 대소면 대금로 ***
대리인 / 주소	최훈식; 이동우; 양한나; 한태근
심사진행상태	취하(심사미청구)
법적상태	취하

초록 ▼

본 발명은 열처리를 이용한 다이아몬드 표면 처리방법에 관한 것으로서, 구체적으로 본 발명에 따른 열처리를 이용한 다이아몬드 표면 처리방법은 다이아몬드 분말을 준비하는 단계; 상기 다이아몬드 분말의 표면에 니켈(Ni), 니켈/인(Ni/P), 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta)및 망간(Mn) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 금속 코팅층을 형성하는 코팅 단계; 상기 금속 코팅층이 형성된 다이아몬드 분말을 불활성 분위기에서 열처리하는 제1 열처리 단계; 상기 열처리된 다이아몬드 분말을 산소(O2) 분위기에서 열처리하는 제2 열처리 단계; 및 상기 열처리된 다이아몬드 분말을 불활성 분위기에서 냉각시키는 냉각 단계;를 포함한다.본 발명에 따르면 표면처리를 통하여 다이아몬드 분말의 연마율을 향상시킴으로써 사파이어 웨이퍼, 에피, 다이아몬드 소결체( PCD, PCBN 등의 가공시 연마속도를 향상시킬 수 있다.

대표청구항

다이아몬드 분말을 준비하는 단계;상기 다이아몬드 분말의 표면에 니켈(Ni), 니켈/인(Ni/P), 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta)및 망간(Mn) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 금속 코팅층을 형성하는 코팅 단계;상기 금속 코팅층이 형성된 다이아몬드 분말을 불활성 분위기에서 열처리하는 제1 열처리 단계;상기 열처리된 다이아몬드 분말을 산소(O2) 분위기에서 열처리하는 제2 열처리 단계; 및상기 열처리된 다이아몬드 분말을 불활성 분위기에서 냉각시키는 냉각 단계;를 포함하는 열처리를 이용한 다이아몬드 표면 처리방법.

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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