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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0035078 (2014-03-26) |
공개번호 | 10-2015-0111594 (2015-10-06) |
등록번호 | 10-2023052-0000 (2019-09-11) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140035078 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-07-12) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 아민 옥사이드 화합물, 1,8-디아자바이사이클로운데크-7-엔, 탄소수 1 내지 20의 알칸올 아민 및 함황 유기 용제를 포함함으로써, 일반 포토레지스트 뿐만 아니라 플라즈마 가스 또는 이온에 의해 변질된 변성 포토레지스트에 대해서도 우수한 제거력을 가지면서, 하부 금속배선 및 실리콘에 대한 부식은 최소화할 수 있는 레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다.
아민 옥사이드 화합물, 1,8-디아자바이사이클로운데크-7-엔, 탄소수 1 내지 20의 알칸올 아민 및 함황 유기 용제를 포함하는 레지스트 박리액 조성물.
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