초록 ▼

이온 소스는 자기장부와 전극을 포함한다. 자기장부는 피처리물을 향하는 일측은 개방되고 타측은 폐쇄된다. 개방 일측에는 다수의 자극이 교대로 이격 배치되고, 폐쇄 타측에는 자심으로 연결되어, 개방 일측에서 플라즈마 전자의 가속 폐 루프를 형성한다. 전극은 자기장부의 가속 폐 루프의 하부에 자기장부와 절연 이격ㄷ된다. 전극은 내부에 냉각수 튜브와 반응가스 튜브를 구비하고, 반응가스 튜브와 개방 일측으로 연통하는 가스 분출부를 갖는다. 이런 구성을 갖는 이온 소스는 외부로부터 공급되는 반응가스를 이온화하여 가스 흐름을 형성하면서 피처리물

이온 소스는 자기장부와 전극을 포함한다. 자기장부는 피처리물을 향하는 일측은 개방되고 타측은 폐쇄된다. 개방 일측에는 다수의 자극이 교대로 이격 배치되고, 폐쇄 타측에는 자심으로 연결되어, 개방 일측에서 플라즈마 전자의 가속 폐 루프를 형성한다. 전극은 자기장부의 가속 폐 루프의 하부에 자기장부와 절연 이격ㄷ된다. 전극은 내부에 냉각수 튜브와 반응가스 튜브를 구비하고, 반응가스 튜브와 개방 일측으로 연통하는 가스 분출부를 갖는다. 이런 구성을 갖는 이온 소스는 외부로부터 공급되는 반응가스를 이온화하여 가스 흐름을 형성하면서 피처리물로 공급한다.

대표청구항 ▼

이온 소스에 있어서,피처리물을 향하는 일측은 개방되고 타측은 폐쇄되며, 상기 개방 일측에는 다수의 자극이 교대로 이격 배치되고, 상기 폐쇄 타측에는 자심으로 연결되어, 상기 개방 일측에서 플라즈마 전자의 가속 폐 루프를 형성하는 자기장부;상기 자기장부의 상기 가속 폐 루프의 하부에 상기 자기장부와 절연 이격되고, 내부에 냉각수를 공급하는 냉각수 튜브와 반응가스를 공급하며 길이 방향을 따라 연통하는 반응가스 튜브를 구비하며, 상기 반응가스 튜브와 상기 개방 일측으로 연통하는 가스 분출부를 갖는 전극을 포함하며,외부로부터 공급되는 반응

이온 소스에 있어서,피처리물을 향하는 일측은 개방되고 타측은 폐쇄되며, 상기 개방 일측에는 다수의 자극이 교대로 이격 배치되고, 상기 폐쇄 타측에는 자심으로 연결되어, 상기 개방 일측에서 플라즈마 전자의 가속 폐 루프를 형성하는 자기장부;상기 자기장부의 상기 가속 폐 루프의 하부에 상기 자기장부와 절연 이격되고, 내부에 냉각수를 공급하는 냉각수 튜브와 반응가스를 공급하며 길이 방향을 따라 연통하는 반응가스 튜브를 구비하며, 상기 반응가스 튜브와 상기 개방 일측으로 연통하는 가스 분출부를 갖는 전극을 포함하며,외부로부터 공급되는 반응가스를 상기 반응가스 튜브 및 상기 가스 분출부를 경유하여 상기 가속 폐 루프의 방향으로 이동시킨 후 이온화하여 상기 피처리물로 공급하는, 전극에 가스 분출부를 갖는 이온 소스.