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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0082755 (2014-07-02) | |
공개번호 | 10-2014-0145568 (2014-12-23) | |
등록번호 | 10-1637158-0000 (2016-07-01) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140082755 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-07-02) | |
심사진행상태 | 등록결정(취소환송후) | |
법적상태 | 등록 |
이온 소스는 자기장부, 전극, 가스 주입부를 갖는다. 자기장부는 피처리물을 향하는 일측은 개방되고 타측은 폐쇄되며, 개방 일측에는 다수의 자극이 교대로 이격 배치되고, 폐쇄 타측에는 자심으로 연결되어, 개방 일측에서 플라즈마 전자의 가속 폐 루프를 형성한다. 전극은 자기장부의 가속 폐 루프의 하부에 자기장부와 이격 배치된다. 가스 주입부는 자극을 관통하여 가속 폐 루프의 방향으로 가스를 공급한다.
이온 소스에 있어서,피처리물을 향하는 일측은 개방되고 타측은 폐쇄되며, 상기 개방 일측에는 중앙의 중앙 자극과 상기 중앙 자극을 둘러싸는 외측 자극이 이격 배치되고, 상기 폐쇄 타측에는 상기 중앙 자극과 상기 외측 자극을 자기 결합하는 자심이 배치되어, 상기 개방 일측에서 플라즈마 전자의 가속 폐 루프를 형성하는 자기장부;상기 자기장부 내에 구비되고, 상기 가속 폐 루프의 하부에 상기 자기장부와 이격 배치되는 전극; 및상기 자기장부 내에 형성되고, 상기 외측 자극을 관통하여 상기 가속 폐 루프의 방향으로 가스를 공급하는 가스 주입부
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