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연합인증

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[한국특허] 세정액 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 세정 방법
Cleaning solution composition and method of cleaning a semiconductor device using the same
원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C11D-007/02
  • C11D-007/50
  • H01L-021/306
출원번호 10-2014-0045382 (2014-04-16)
공개번호 10-2015-0119675 (2015-10-26)
등록번호 10-2153745-0000 (2020-09-02)
DOI http://doi.org/10.8080/1020140045382
발명자 / 주소
  • 배상원 / 경기도 수원시 팔달구 장다리로***번길 **, ***동 ***호(인계동, 한신아파트)
  • 고용선 / 경기도 수원시 권선구 동수원로***번길 **, ***동 ***호(권선동, 수원아이파크시티아파트)
  • 김석훈 / 경기도 성남시 수정구 수정로***번길 **, ***호(신흥동, 삼남아파트)
  • 김인기 / 경기도 화성시 동탄숲속로 **, ***동 ***호(능동, 숲속마을풍성신미주아파트)
  • 오정민 / 인천광역시 남동구 담방서로**번길 **, ***동 ****호(만수동, 이삭*차아파트)
  • 이근택 / 경기도 수원시 팔달구 효원로***번길 **, ***동 ***호(인계동, 꿈에그린효원)
  • 이효산 / 경기도 화성시 동탄반석로 **, ***동 ****호(반송동, 한화우림아파트)
  • 정지훈 / 경기도 수원시 영통구 영통로 ***, ***동 ***호(영통동, 두산아파트)
  • 조용진 / 경기도 화성시 동탄공원로 **-**, ***동 ****호(능동, 푸른마을신일해피트리아파트)
출원인 / 주소
  • 삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 삼성로 *** (매탄동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 고려
심사청구여부 있음 (2019-03-18)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

금속 불화물이 용해되지 않는 유기 용매, 바이 플루오라이드(HF2-)를 생성하는 불소 화합물, 및 1.5 중량% 이하의 초순수를 포함하는 세정액 조성물 및 상기 세정액 조성물을 이용한 반도체 소자의 세정 방법이 제공된다.

대표청구항

금속 불화물이 용해되지 않는 유기 용매;바이 플루오라이드(HF2-)를 생성하는 적어도 하나의 불소 화합물; 및초순수를 포함하되,상기 불소 화합물은 불화수소(HF) 및 불화암모늄(NH4F)을 포함하며,그 총 중량에 대해 상기 HF는 0.002~0.01 중량%로 포함하고, 상기 NH4F는 0.02~0.05 중량%로 포함하며, 상기 초순수는 1.5 중량% 이하로 포함하는 세정액 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 세정용액 및 이를 이용한 세정 방법 | 정승필, 송재인, 박흥수, 고영범
  2. [한국] 비스무트 피막 부착 금속재료 및 그의 제조방법, 그것에 사용하는 표면처리액 및 양이온 전착도장 금속재료 및 그의 제조방법 | 가와고시 료스케, 이시이 히토시
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