[특허]식각용 조성물 및 식각용 조성물을 이용한 반도체 소자의 식각 방법

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[한국특허] 식각용 조성물 및 식각용 조성물을 이용한 반도체 소자의 식각 방법
Etchant composition for etching and method for etching semiconductor device using the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)	C09K-013/04 C09K-013/06 H01L-021/027 H01L-021/306
출원번호	10-2016-0160558 (2016-11-29)
공개번호	10-2018-0060722 (2018-06-07)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020160160558
발명자 / 주소	최용재 / 경상북도 칠곡군 기산면 주산로 *- 임정훈 / 대전광역시 대덕구 송촌로번길 , 공원주택 *호 김민구 / 서울특별시 마포구 독막로길 , 마포자이아파트 동 **호
출원인 / 주소	솔브레인 주식회사 / 경기도 성남시 분당구 판교로*번길 (삼평동)
대리인 / 주소	특허법인태평양
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록

본 발명은 티타늄 질화막(TiN)/탄탈륨 질화막(TaN) 적층막의 식각용 조성물로서, 과산화수소, 산 화합물을 포함하고, 잔부의 용매를 포함한다. 또한, 본 발명의 다른 일 측면은 상기 식각용 조성물을 이용하여 반도체 제조 공정에서 이용되는 티타늄 질화막(TiN)/탄탈륨 질화막(TaN) 적층막의 식각 공정을 제공한다.본 발명에 따른 식각용 조성물은 티타늄 질화막을 우수한 선택도를 가지고 제거할 수 있고, 탄탈륨 질화막의 손상을 최소화 할 수 있으며 보관 안정성이 우수하다.

대표청구항

과산화수소 5 내지 30 중량%,산 화합물 15 내지 50 중량%, 및 잔부의 용매를 포함하는 티타늄 질화막(TiN)/탄탈륨 질화막(TaN) 적층막의 식각용 조성물.

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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