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IZO 스퍼터링 타겟 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-014/34
  • C04B-035/01
  • C04B-035/453
출원번호 10-2014-0045778 (2014-04-17)
공개번호 10-2015-0120073 (2015-10-27)
DOI http://doi.org/10.8080/1020140045778
발명자 / 주소
  • 박훈 / 충청남도 아산시 탕정면 탕정로 ***
  • 이은경 / 충청남도 아산시 탕정면 탕정로 ***
  • 권세희 / 충청남도 아산시 탕정면 탕정로 ***
  • 김성민 / 충청남도 아산시 탕정면 탕정로 ***
  • 박형율 / 충청남도 아산시 탕정면 탕정로 ***
출원인 / 주소
  • 삼성코닝어드밴스드글라스 유한회사 / 충청남도 아산시 탕정면 탕정로 *** (삼성코닝어드밴스드글라스유한회사)
대리인 / 주소
  • 김선민
심사청구여부 있음 (2014-04-17)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명은 IZO 스퍼터링 타겟 제조방법에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 IZO로 이루어진 소결체의 비저항을 감소시킬 수 있고, 이를 통해, 스퍼터링 시 높은 파워 하에서도 IZO 소결체의 크랙 발생 확률을 감소시킬 수 있는 IZO 스퍼터링 타겟 제조방법에 관한 것이다.이를 위해, 본 발명은, 산화인듐 분말과 산화아연 분말의 혼합 분말을 성형하여 IZO 성형체로 만드는 성형단계; 상기 IZO 성형체를 소결하여 IZO 소결체로 만드는 소결단계; 및 상기 IZO 소결체의 후면에 백킹 플레이트를 본딩하는 본딩단계를 포함하되, 상기 소결단

대표청구항

산화인듐 분말과 산화아연 분말의 혼합 분말을 성형하여 IZO 성형체로 만드는 성형단계;상기 IZO 성형체를 소결하여 IZO 소결체로 만드는 소결단계; 및상기 IZO 소결체의 후면에 백킹 플레이트를 본딩하는 본딩단계;를 포함하되,상기 소결단계에서는 무산소 분위기 하에서 상기 IZO 성형체에 대한 소결을 진행하고, 소결 최고 온도를 적어도 1400℃ 이상으로 제어하는 것을 특징으로 하는 IZO 스퍼터링 타겟 제조방법.

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [일본] TARGET AND ITS PRODUCTION | OYAMA MASATSUGU, UMIGAMI AKIRA, SHIBATA MASATOSHI
  2. [한국] 원통형 스퍼터링 타겟, 세라믹 소결체와 그 제조방법 | 이토 켄이치, 마스코 히토시, 시부타미 테츠오
  3. [국제] SPUTTERING TARGET, AND HIGH-RESISTANCE TRANSPARENT FILM AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF | ZHANG SHOUBIN, KONDOU YUICHI, MORI RIE, YAMAGUCHI GOU,
  4. [일본] MANUFACTURING METHOD OF INDIUM OXIDE-ZINC OXIDE SINTERED BODY | INOUE KAZUYOSHI, UMIGAMI AKIRA, MATSUBARA MASAHITO
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