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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0045778 (2014-04-17) | |
공개번호 | 10-2015-0120073 (2015-10-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140045778 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-04-17) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 IZO 스퍼터링 타겟 제조방법에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 IZO로 이루어진 소결체의 비저항을 감소시킬 수 있고, 이를 통해, 스퍼터링 시 높은 파워 하에서도 IZO 소결체의 크랙 발생 확률을 감소시킬 수 있는 IZO 스퍼터링 타겟 제조방법에 관한 것이다.이를 위해, 본 발명은, 산화인듐 분말과 산화아연 분말의 혼합 분말을 성형하여 IZO 성형체로 만드는 성형단계; 상기 IZO 성형체를 소결하여 IZO 소결체로 만드는 소결단계; 및 상기 IZO 소결체의 후면에 백킹 플레이트를 본딩하는 본딩단계를 포함하되, 상기 소결단
산화인듐 분말과 산화아연 분말의 혼합 분말을 성형하여 IZO 성형체로 만드는 성형단계;상기 IZO 성형체를 소결하여 IZO 소결체로 만드는 소결단계; 및상기 IZO 소결체의 후면에 백킹 플레이트를 본딩하는 본딩단계;를 포함하되,상기 소결단계에서는 무산소 분위기 하에서 상기 IZO 성형체에 대한 소결을 진행하고, 소결 최고 온도를 적어도 1400℃ 이상으로 제어하는 것을 특징으로 하는 IZO 스퍼터링 타겟 제조방법.
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