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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2014-0087505 (2014-07-11) | |
| 공개번호 | 10-2016-0007192 (2016-01-20) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020140087505 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 포기(등록료 미납) | |
| 법적상태 | 포기 |
오버레이 측정 방법에 있어서, 서로 중첩된 상부 및 하부 패턴들이 각각 형성된 다층 구조의 시료 상에 전자빔을 조사하여 상기 상부 및 하부 패턴들에 대한 실제 이미지를 획득한다. 상기 실제 이미지로부터 상기 상부 패턴을 나타내는 제1 이미지 및 상기 하부 패턴을 나타내는 제2 이미지를 획득한다. 상기 상부 및 하부 패턴들의 설계 이미지로부터 상기 상부 및 하부 패턴들에 대한 기준 위치를 설정한다. 상기 기준 위치에 대한 상기 제1 이미지의 상부 패턴의 위치 편차 및 상기 제2 이미지의 하부 패턴의 위치 편차를 산출하여 상기 상부 패
서로 중첩된 상부 및 하부 패턴들이 각각 형성된 다층 구조의 시료 상에 전자빔을 조사하여 상기 상부 및 하부 패턴들에 대한 실제 이미지를 획득하고;상기 실제 이미지로부터 상기 상부 패턴을 나타내는 제1 이미지 및 상기 하부 패턴을 나타내는 제2 이미지를 획득하고;상기 상부 및 하부 패턴들의 설계 이미지로부터 상기 상부 및 하부 패턴들에 대한 기준 위치를 설정하고; 그리고상기 기준 위치에 대한 상기 제1 이미지의 상부 패턴의 위치 편차 및 상기 제2 이미지의 하부 패턴의 위치 편차를 산출하여 상기 상부 패턴과 상기 하부 패턴 사이의
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