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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0093136 (2014-07-23) | |
공개번호 | 10-2014-0108503 (2014-09-11) | |
등록번호 | 10-1571317-0000 (2015-11-18) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020120043147 (2012-04-25) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140093136 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-10-05) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본원은, 고분자 기재 상에 그래핀 층을 형성하는 단계; 및, 핫엠보싱(hot embossing) 임프린팅을 통해 상기 그래핀 층에 나노패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 그래핀의 패터닝 방법에 관한 것이다.
고분자 기재 상에 그래핀 층을 형성하는 단계; 및,핫엠보싱(hot embossing) 임프린팅을 통해 상기 그래핀 층에 나노패턴을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 핫엠보싱 임프린팅을 통해 상기 그래핀 층에 나노패턴을 형성하는 단계는, 나노 패턴이 형성된 핫 몰드를 상기 그래핀 층에 접촉시켜 가열 및 가압하는 것을 포함하고,상기 가열은 60℃ 이상 500℃ 미만의 온도에서 수행되는 것인,그래핀의 패터닝 방법.
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