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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0111643 (2014-08-26) | |
공개번호 | 10-2016-0024616 (2016-03-07) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140111643 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-08-26) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 바이폴라 펄스 전류를 이용하여 저전력으로 피막의 특성을 조절할 수 있는 금속의 산화피막 형성방법에 관한 것으로, 금속을 전해액에 침지하고, 상기 금속을 애노드극으로하고 대향전극을 캐소드극으로 하여 통전함으로써 상기 금속의 표면에 마이크로 아크 산화 코팅을 수행하여 산화피막을 형성하는 방법으로서, 상기 애노드극과 상기 캐소드극의 사이에는 양극성 펄스 전류가 인가되며, 상기 전류는 애노드 펄스 단계, 1차 휴지단계, 캐소드 펄스 단계 및 2차 휴지단계를 순차적으로 적어도 1회 이상 수행하는 것을 특징으로 한다.본 발명은, 양
금속을 전해액에 침지하고, 상기 금속을 애노드극으로하고 대향전극을 캐소드극으로 하여 통전함으로써 상기 금속의 표면에 마이크로 아크 산화 코팅을 수행하여 산화피막을 형성하는 방법으로서,상기 애노드극과 상기 캐소드극의 사이에는 양극성 펄스 전류가 인가되며,상기 전류는 애노드 펄스 단계, 1차 휴지단계, 캐소드 펄스 단계 및 2차 휴지단계를 순차적으로 적어도 1회 이상 수행하는 것을 특징으로 하는 금속의 산화피막 형성방법.
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