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공정 폐가스 처리용 스크러버 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/02
출원번호 10-2014-0116406 (2014-09-02)
공개번호 10-2015-0033535 (2015-04-01)
등록번호 10-1635388-0000 (2016-06-27)
우선권정보 대한민국(KR) 1020130112805 (2013-09-23)
DOI http://doi.org/10.8080/1020140116406
발명자 / 주소
  • 박상순 / 경기도 성남시 분당구 운중로***번길 *-* (운중동)
  • 정종문 / 경기도 안성시 공도읍 공도로 *** KCC 스위첸 아파트 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 지앤비에스엔지니어링 / 경기도 안성시 대덕면 모산로 ***-**
대리인 / 주소
  • 특허법인 명장
심사청구여부 있음 (2014-09-02)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록 ▼

본 개시(Disclosure)는, 반도체 제조 공정, LCD(Liquid Crystal Display) 또는 OLED(Organic Light Emitting Display)와 같은 평판 표시 장치의 제조 공정 또는 태양전지 제조 공정 또는 LED 제조 공정 등에서 배출되는 공정 폐 가스를 처리하는 공정 폐가스 처리용 스크러버에 관한 것으로서, 본 개시의 일 태양에 따르면(According to one aspect of the present disclosure), 공정 폐가스의 처리 유동 경로에 공정 폐가스를 아민계 물질과 접촉시켜

대표청구항 ▼

할로겐족 원소를 포함하는 공정 폐가스의 처리 유동 경로에 공정 폐가스를 아민계 물질과 접촉시켜 상기 공정 폐가스에 포함되어 있는 할로겐화 수소화합물을 포함하는 수용성 가스를 물을 사용하지 않고 산염기 반응에 의하여 제거하는 반응부;상기 공정 폐가스의 처리 유동 경로 중, 상기 반응부의 상류에 구비되며, 상기 공정 폐가스를 설정된 열원에 의해 가열하는 열원부; 및상기 공정 폐가스를 분해 및 냉각시켜 반응 부산물을 포집하는 냉각부;를 포함하는 공정 폐가스 처리용 스크러버이며, 상기 열원부는, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 토치; 유입되

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