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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2014-0127510 (2014-09-24) | |
| 공개번호 | 10-2016-0036138 (2016-04-04) | |
| 등록번호 | 10-1651004-0000 (2016-08-18) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020140127510 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2014-09-24) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 실리콘 제조 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 제조 장치는, 내부에 반응 챔버가 형성되는 반응기, 상기 반응 챔버 내부에 구비되며, 하나 이상의 필라멘트로 구성되는 적어도 하나의 실리콘 로드, 상기 반응 챔버 내로 투입 가스를 공급하는 가스 공급부, 상기 수직 필라멘트에 연결되어 상기 실리콘 로드로 전류를 공급하는 전력 공급부, 상기 실리콘 로드의 성장 상태를 확인하기 위한 이미지를 생성하는 생성하는 적어도 하나의 이미지 획득부 및 상기 이미지를 이용하여 결정되는 상기 실리콘 로드의 현재
내부에 반응 챔버가 형성되는 반응기;상기 반응 챔버 내부에 구비되며, 하나 이상의 필라멘트로 구성되는 적어도 하나의 실리콘 로드;상기 반응 챔버 내로 투입 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 필라멘트에 연결되어 상기 실리콘 로드로 전류를 공급하는 전력 공급부;상기 실리콘 로드의 직경을 확인하기 위한 이미지를 생성하는 이미지 획득부; 및상기 이미지를 이용하여 결정되는 상기 실리콘 로드의 현재 직경, 미리 설정된 목표 직경 및 미리 설정된 목표 전환율 중 적어도 하나에 기반하여 상기 전류의 크기 및 상기 투입 가스의 공급량 중 적어도 하
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