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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0163820 (2014-11-21) | |
공개번호 | 10-2016-0061212 (2016-05-31) | |
등록번호 | 10-1716187-0000 (2017-03-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140163820 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-02-17) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 일 실시예에 따르면, 촉매 금속층의 적어도 일면에, 그래핀을 합성하는 단계; 상기 그래핀에 캐리어를 부착하여 제1 구조체를 형성하는 단계; 상기 제1 구조체로부터 상기 촉매 금속층을 제거하여 제2 구조체를 형성하는 단계; 타겟 기판에, 아르곤에 대한 산소의 유량비가 0.1 내지 0.5인 조건하에서 플라즈마 처리를 하는 단계; 상기 제2 구조체의 그래핀과 상기 타겟 기판을 서로 마주보게 하여 압착시켜 제3 구조체를 형성하는 단계; 및 상기 캐리어를 제거하는 단계;를 포함하는 그래핀 전사 방법을 개시한다.
촉매 금속층의 적어도 일면에, 그래핀을 합성하는 단계;상기 그래핀에 캐리어를 부착하여 제1 구조체를 형성하는 단계;상기 제1 구조체로부터 상기 촉매 금속층을 제거하여 제2 구조체를 형성하는 단계;타겟 기판에, 아르곤에 대한 산소의 유량비가 0.1 내지 0.5인 조건하에서 플라즈마 처리를 하는 단계;상기 제2 구조체의 그래핀과 상기 타겟 기판을 서로 마주보게 하여 압착시켜 제3 구조체를 형성하는 단계; 및상기 캐리어를 제거하는 단계;를 포함하는 그래핀 전사 방법.
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