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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0164427 (2014-11-24) | |
등록번호 | 10-1615346-0000 (2016-04-19) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140164427 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-11-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
적어도 하나의 반도체 제조 공정에 의해 제조되는 복수개의 웨이퍼들에 관해 획득된 복수의 유형의 데이터 중에서, 선택된 유형의 타겟 데이터를 검출하고, 검출된 타겟 데이터를 적어도 하나의 기 설정된 조건에 따라 분석하여, 검출된 타겟 데이터의 특성을 나타내는 차트를 생성하며, 검출된 타겟 데이터 중에서 생성된 차트 별로 결정되는 임계 범위를 만족하지 못하는 오류 타겟 데이터를 검출하고, 검출된 오류 타겟 데이터에 대응되는 웨이퍼의 정보를 출력하는 반도체 제조 공정에서의 이상 감지 방법이 개시된다.
적어도 하나의 반도체 제조 공정에 의해 제조되는 복수개의 웨이퍼들에 대해 상기 반도체 제조 공정에 포함되는 각각의 프로세스에서 측정된 파라미터에 관한 정보를 기 설정된 시간 단위 별로 요약한 제 1 데이터, 제조 공정 별로 요약한 제 2 데이터 및 데이터의 측정 방법 별로 요약한 제 3 데이터 중 사용자 입력에 기초하여 선택된 타겟 데이터를 검출하는 단계;상기 검출된 타겟 데이터를 적어도 하나의 기 설정된 조건에 따라 실시간으로 분석하여, 상기 검출된 타겟 데이터의 평균값, 최대값, 최소값 및 표준 편차 중 적어도 하나의 특성을 나
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