초록 ▼

본 발명의 반사형 마스크는 마스크 기판과, 상기 마스크 기판 상에 형성된 다중 반사층과, 상기 다중 반사층에 제공된 메인 트랜치(main trench)와, 상기 메인 트랜치 내에 서로 떨어져 형성된 복수개의 지지 패턴들을 포함하고, 상기 지지 패턴들의 폭은 노광 대상 기판으로 전사되지 않게 구성한다. 더하여, 반사형 마스크는 상기 메인 트랜치 내에 상기 지지 패턴들에 의하여 구획된 복수개의 보조 트랜치들과, 상기 보조 트랜치들 내에 형성된 복수개의 보조 광흡수 패턴들을 포함하여 광흡수 패턴을 구성하되, 상기 보조 광흡수 패턴들은 상

본 발명의 반사형 마스크는 마스크 기판과, 상기 마스크 기판 상에 형성된 다중 반사층과, 상기 다중 반사층에 제공된 메인 트랜치(main trench)와, 상기 메인 트랜치 내에 서로 떨어져 형성된 복수개의 지지 패턴들을 포함하고, 상기 지지 패턴들의 폭은 노광 대상 기판으로 전사되지 않게 구성한다. 더하여, 반사형 마스크는 상기 메인 트랜치 내에 상기 지지 패턴들에 의하여 구획된 복수개의 보조 트랜치들과, 상기 보조 트랜치들 내에 형성된 복수개의 보조 광흡수 패턴들을 포함하여 광흡수 패턴을 구성하되, 상기 보조 광흡수 패턴들은 상기 보조 트랜치들 내부에 매립되어 있는 것을 포함한다.

대표청구항 ▼

마스크 기판;상기 마스크 기판 상에 형성된 다중 반사층;상기 다중 반사층에 제공된 메인 트랜치(main trench);상기 메인 트랜치 내에 서로 떨어져 형성된 복수개의 지지 패턴들을 포함하고, 상기 지지 패턴들의 폭은 노광 대상 기판으로 전사되지 않게 구성하고;상기 메인 트랜치 내에 상기 지지 패턴들에 의하여 구획된 복수개의 보조 트랜치들; 및 상기 보조 트랜치들 내에 형성된 복수개의 보조 광흡수 패턴들을 포함하여 광흡수 패턴을 구성하되,상기 보조 광흡수 패턴들은 상기 보조 트랜치들 내부에 매립되어 있는 것을 특징으로 하는 반사형

마스크 기판;상기 마스크 기판 상에 형성된 다중 반사층;상기 다중 반사층에 제공된 메인 트랜치(main trench);상기 메인 트랜치 내에 서로 떨어져 형성된 복수개의 지지 패턴들을 포함하고, 상기 지지 패턴들의 폭은 노광 대상 기판으로 전사되지 않게 구성하고;상기 메인 트랜치 내에 상기 지지 패턴들에 의하여 구획된 복수개의 보조 트랜치들; 및 상기 보조 트랜치들 내에 형성된 복수개의 보조 광흡수 패턴들을 포함하여 광흡수 패턴을 구성하되,상기 보조 광흡수 패턴들은 상기 보조 트랜치들 내부에 매립되어 있는 것을 특징으로 하는 반사형 마스크.