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자외선 경화형 고굴절 유무기 하이브리머 조성물 및 이의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C08F-220/26
  • C08F-220/32
  • C08F-220/38
  • C08K-003/22
  • C08L-033/12
출원번호 10-2015-0013295 (2015-01-28)
공개번호 10-2016-0092654 (2016-08-05)
등록번호 10-1692780-0000 (2016-12-29)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150013295
발명자 / 주소
  • 이형종 / 대전광역시 유성구 구즉로 ** (송강동, 한마을아파트) ***동 ****호
  • 백남섭 / 대전광역시 유성구 가정로 ** (신성동, 럭키하나아파트) ***동 ***호
  • 김상하 / 세종특별자치시 조치원읍 도장말길 ** (신동아파밀리에) ***동 ***호
  • 서윤정 / 대전광역시 유성구 노은서로***번길 ** (지족동, 열매마을*단지) ***동 ***호
출원인 / 주소
  • (주)켐옵틱스 / 대전광역시 유성구 테크노*로 *** (탑립동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 플러스
심사청구여부 있음 (2015-01-28)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 발명은 자외선 경화형 고굴절 유무기 하이브리머 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 반응성 고분자 화합물과 무기 조성물과의 열가교 및 광가교를 통해 고굴절률, 유/무기 혼화성, 열안정성을 획기적으로 향상시켜 유기발광 디스플레이 및 조명 등의 높은 고굴절 특성을 요구하는 광추출 평탄층으로 적용 가능하며, 광경화 반응을 이용한 패턴 형성이 용이하며, 고온에서의 황변 특성이 적고 투과도를 높일 수 있어 응용 가능성이 뛰어난 유무기 하이브리머 조성물 및 이의 제조방법을 제공한다.

대표청구항 ▼

하기 화학식 1의 고분자 화합물, 하기 화학식 10 및 화학식 11 중에서 선택되는 어느 하나 이상의 무기 화합물 및 용매를 포함하는 유무기 하이브리머 조성물.[화학식 1](상기 화학식 1에 있어서, R1, R2, R3 및 R6은 수소 또는 (C1-C30)알킬이고, R4는OH 또는 SH이고, X1는 단일결합 또는 수산화기를 포함하는 (C1-C20)알킬렌이고, X2는 S, NH 또는 O이고, Y는 (C6-C30)아릴이고, Z1는 (C6-C30)아릴 또는 아크릴이고, Z2는 단일결합 또는 (C6-C30)아릴이고, a, b 및 c는 각각

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [일본] ACTINIC-RADIATION-CURING (METH)ACRYLATE COMPOSITION | OKAZAKI EIICHI, NAKAGAWA SUMIE, KATO HITOSHI
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  2. [한국] 하드 코팅 조성물 및 이의 제조 방법 및 상기 하드 코팅 조성물을 이용하여 형성된 하드 코팅 필름 | 강문식, 김지은
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  3. [일본] ZIRCONIUM OXIDE PARTICLE DISPERSION, ZIRCONIUM OXIDE PARTICLE-CONTAINING PHOTOCURABLE COMPOSITION, AND CURED FILM | MUROUCHI MASAHITO, HAYASHI KENJI, MIZOGUCHI HIROTSUYO, MURAKAMI MASAAKI
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  4. [일본] PIGMENT-DISPERSED COMPOSITION, CURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER AND PRODUCTION METHOD OF THE COLOR FILTER | AIZAWA TAEKO, SHIMADA KAZUTO
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