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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0038318 (2015-03-19) | |
공개번호 | 10-2016-0112500 (2016-09-28) | |
등록번호 | 10-2157278-0000 (2020-09-11) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150038318 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-01-17) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 포토레지스트 제거용 세정액 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플루오르계 화합물 중 적어도 하나의 화합물, 유기술폰산 및 유기 용매를 포함하고, 상기 유기 용매는 술포란(sulfolane) 또는 N-에틸피롤리돈(N-ethylpyrrolidone) 중 적어도 하나의 화합물을 포함함으로써, 포토레지스트에 대한 우수한 제거력을 가지며, 포토레지스트의 상부 또는 하부에 형성되는 반사방지코팅도 용이하게 제거할 수 있다. 또한, 이러한 식각 잔사의 제거와 동시에 하부 실리콘 산화막에 대한 손상을 최소화할 수 있는 포토레지스트
하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 화합물 중 적어도 하나의 화합물, 유기술폰산 및 유기 용매를 포함하고, 상기 유기 용매는 술포란(sulfolane) 또는 N-에틸피롤리돈(N-ethylpyrrolidone) 중 적어도 하나의 화합물을 포함하는, 비수계 포토레지스트 제거용 세정액 조성물:[화학식 1](R1)4N+F-[화학식 2](R2)4N+HF2-(식 중에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 8의 직쇄의 알킬기임).
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