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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0059569 (2015-04-28) | |
공개번호 | 10-2016-0128501 (2016-11-08) | |
등록번호 | 10-1708554-0000 (2017-02-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150059569 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-04-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 이온풍을 이용하는 히트싱크에 관한 것으로서, 판형으로 마련되는 방열판과, 복수 개로 마련되어 상기 방열판으로부터 돌출 형성되는 방열핀을 포함하는 방열부; 및 교류전압을 인가받아 플라즈마 방전되며, 방전시 발생된 이온이 공기분자와 충돌하여 상기 방열핀 외측을 유동하는 이온풍을 발생시키는 이온풍발생부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이를 통해, 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge, DBD)에 의해 이온풍을 발생시킴으로써 팬(fan) 또는 모터와 같은 기계적 구동이 요구되지 않아 장치의 소형
판형으로 마련되며, 중앙부에 상면으로부터 돌출형성되는 돌출부가 형성되는 방열판과, 복수 개로 마련되어 길이방향이 상하방향으로 위치하도록 상기 돌출부에 설치되는 방열핀을 포함하는 방열부; 및상기 돌출부의 외측을 둘러싸도록 배치되며, 교류전압을 인가받아 플라즈마 방전되며, 플라즈마 방전에 의해 발생된 이온은 공기분자와 충돌하여 이온풍으로 발생되고, 상기 이온풍은 상기 방열핀의 외측과 충돌하여 상기 방열핀의 외측을 따라 상향으로 유동하는 이온풍발생부;를 포함하며,상기 이온풍발생부는,상기 방열부의 상기 돌출부의 가장자리에 맞닿도록 설치되는
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