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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2015-0071434 (2015-05-22) | |
| 공개번호 | 10-2016-0136988 (2016-11-30) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020150071434 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2015-05-22) | |
| 심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
| 법적상태 | 거절 |
외부로부터 공급된 VOCs함유 가스 중의 VOCs가 흡착되는 흡착영역, 고온의 재생공기를 통하여 상기 흡착영역에서 흡착된 VOCs를 탈착시키는 재생영역, 및 상기 VOCs가 탈착된 후 냉각이 진행되는 냉각영역을 포함하고, 회전구동되는 원통형태의 허니컴형 흡착 로터; 상기 허니컴형 흡착 로터의 일측에 설치된 마이크로웨이브 조사장치; 상기 허니컴형 흡착 로터의 타측에 설치되고 상기 마이크로웨이브 조사방향의 연장선 상에 배치된 산화촉매부; 및 상기 산화촉매부 또는 상기 냉각영역에서 발생하는 폐열을 열교환하여 상기 재생공기에 공급하는 열교
외부로부터 공급된 VOCs함유 가스 중의 VOCs가 흡착되는 흡착영역, 고온의 재생공기를 통하여 상기 흡착영역에서 흡착된 VOCs를 탈착시키는 재생영역, 및 상기 VOCs가 탈착된 후 냉각이 진행되는 냉각영역을 포함하고, 회전구동되는 원통형태의 허니컴형 흡착 로터;상기 허니컴형 흡착 로터의 일측에 설치되어 상기 VOCs함유 가스의 공급방향과 평행하게 상기 재생영역에 마이크로웨이브를 조사하여 가열하는 마이크로웨이브 조사장치;상기 허니컴형 흡착 로터의 타측에 설치되고 상기 마이크로웨이브 조사방향의 연장선 상에 배치되어 상기 재생영역에서
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