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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0080872 (2015-06-08) | |
공개번호 | 10-2016-0129657 (2016-11-09) | |
등록번호 | 10-1700684-0000 (2017-01-23) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020150061914 (2015-04-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150080872 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-06-10) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
수산화리튬, 및 탄산리튬의 제조 방법 및 그 장치에 관한 것으로, 인산리튬을 산(acid)에 용해시키는 단계; 음극 분리막이 포함된 음극셀; 1가 음이온을 선택적으로 투과시키는 1가 음이온 선택형 투석막; 1가 양이온을 선택적으로 투과시키는 1가 양이온 선택형 투석막; 및 양극 분리막이 포함된 양극셀;이 순서대로 배치된 1가 이온 선택형 전기투석장치를 준비하여, 상기 산에 용해된 인산리튬을 상기 양극셀의 양극 분리막과 상기 1가 양이온 선택형 투석막 사이, 및 상기 음극셀의 음극 분리막과 상기 1가 음이온 선택형 투석막 사이에 각각
인산리튬을 산(acid)에 용해시키는 단계;상기 산에 용해된 인산리튬을 1가 이온 선택형 전기투석장치에 투입하여, 염화리튬 수용액을 수득함과 동시에 부산물로 형성되는 인산 수용액을 수득하는 단계; 및상기 수득된 염화리튬 수용액을 바이폴라 전기투석장치에 투입하여, 수산화리튬 수용액을 수득함과 동시에 부산물로 염산 수용액을 수득하는 단계;를 포함하는 수산화리튬의 제조 방법.
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