[특허]미세 먼지 및 중금속 제거용 화장료 조성물

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미세 먼지 및 중금속 제거용 화장료 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)	A61K-008/25 A61K-008/02 A61K-008/04 A61K-008/34 A61K-008/67 A61K-008/68 A61K-008/72 A61Q-019/00
출원번호	10-2015-0092106 (2015-06-29)
공개번호	10-2017-0002745 (2017-01-09)
등록번호	10-1703928-0000 (2017-02-01)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020150092106
발명자 / 주소	유현오 / 서울특별시 서초구 신반포로 * 동 *호 (반포동,반포자이아파트) 석창현 / 충청남도 천안시 서북구 봉서산로 *동 **호 (불당동,호반리젠시빌아파트)
출원인 / 주소	주식회사 제닉 / 서울특별시 서초구 강남대로길 -, 층 (양재동, 성경빌딩)
대리인 / 주소	특허법인씨엔에스
심사청구여부	있음 (2015-06-29)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록 ▼

본 발명은 미세 먼지 및 중금속 제거용 화장료 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전체 화장료 조성물의 중량을 기준으로 0.001 이상 내지 20.0 중량% 미만의 규소 화합물을 포함하는 미세 먼지 및 중금속 제거용 화장료 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 피부에 축적된 중금속 및 미세 먼지를 효과적으로 흡착하여 제거할 수 있으며, 따라서 중금속 및 미세 먼지로 인해 유발되는 피부의 염증을 저감하여 피부 트러블을 예방할 수 있다. 나아가, 본 발명의 화장료 조성물은 자극을 받은 피부에 대한 보호 효과도 제공할 수 있어

대표청구항

SiO2, SiO3 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 규소 화합물을 전체 화장료 조성물의 중량을 기준으로 0.001 내지 10.0 중량%로 포함하는 미세 먼지 및 중금속 제거용 하이드로겔 팩 조성물.

이 특허에 인용된 특허 (2)

[한국] 맥상 점토 광석을 함유하는 마사지 팩 | 김오규
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[한국] 점착성 하이드로겔 조성물 및 이를 이용한 점착성 하이드로겔 시트의 제조방법 | 유현오, 김종철, 김민석, 임재민, 최은경, 양진아
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이 특허를 인용한 특허 (3)

[한국] 자일로올리고당을 유효성분으로 함유하는 중금속 및 미세 먼지 제거용 화장료 조성물 | 이지영, 이춘몽, 이광식, 이건국
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[한국] 오염물질을 흡착하는 하이드로겔 및 그 제조방법 | 이원진, 김솔빈, 엄지수, 이정표
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[한국] 미세먼지의 흡수가 가능한 코팅액, 코팅액을 표면에 갖는 차량, 및 상기 코팅액이 도포된 도시 시설물 | 김조천, 정권, 딘 브엉
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IPC 상위 출원인

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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