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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0109035 (2015-07-31) | |
공개번호 | 10-2017-0014949 (2017-02-08) | |
등록번호 | 10-1725508-0000 (2017-04-05) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150109035 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-07-31) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 (i) 제1 용매에 헥사나이트로스틸벤 (hexanitrostilbene) 입자를 용해시켜 반응용액을 제조하는 단계; (ii) 상기 반응용액에 제2 용매를 접촉시켜 교반함으로써 헥사나이트로스틸벤 타입 IV(hexanitrostilbene type IV) 입자를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제1 용매는 헥사나이트로스틸벤에 대하여 양용매이고, 상기 제2 용매는 헥사나이트로스틸벤에 대하여 비용매이면서 상기 제1 용매와 혼화성인 용매이며, 상기 단계 (ii)의 교반은 상기 헥사나이트로스틸벤 타입 IV 입자의 석출시간보다 짧은
(i) 제1 용매에 헥사나이트로스틸벤 (HNS) 입자를 용해시켜 반응용액을 제조하는 단계; (ii) 상기 반응용액에 제2 용매를 접촉시켜 교반함으로써 헥사나이트로스틸벤 타입 IV(HNS IV) 입자를 형성하는 단계를 포함하고,상기 제1 용매는 헥사나이트로스틸벤에 대하여 양용매이고,상기 제2 용매는 헥사나이트로스틸벤에 대하여 비용매이면서 상기 제1 용매와 혼화성인 용매이며,상기 단계 (ii)의 교반은 상기 헥사나이트로스틸벤 타입 IV 입자의 석출시간보다 짧은 반응시간에 걸쳐 상기 반응용액과 상기 제2 용매가 접촉하면서 이루어지도록
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