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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2015-0121963 (2015-08-28) | |
| 공개번호 | 10-2017-0025477 (2017-03-08) | |
| 등록번호 | 10-1895526-0000 (2018-08-30) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020150121963 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2016-08-09) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명의 목적은 로드 브릿지가 배치되는 실리콘 로드의 상부를 냉각하여 화학기상증착 반응 공정의 전반에서 팝콘 발생을 방지하는 폴리실리콘 제조 장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리실리콘 제조 장치는, 베이스 위에 배치되어 반응 챔버를 형성하는 반응기, 상기 베이스에 설치되어 상기 반응 챔버 내부로 연장되는 1쌍의 전극단자, 상기 반응 챔버 내에서 상기 전극단자에 설치되어 상단에서 로드 브릿지로 서로 연결되어, 원료 가스의 화학기상증착으로 폴리실리콘의 실리콘 로드가 형성되는 로드 필라멘트, 및 상기 로드 브릿지
베이스 위에 배치되어 반응 챔버를 형성하는 반응기;상기 베이스에 설치되어 상기 반응 챔버 내부로 연장되는 1쌍의 전극단자;상기 반응 챔버 내에서 상기 전극단자에 설치되어 상단에서 로드 브릿지로 서로 연결되어, 원료 가스의 화학기상증착으로 폴리실리콘의 실리콘 로드가 형성되는 로드 필라멘트; 및상기 로드 브릿지 및 상기 로드 필라멘트 주위에 증착되는 실리콘으로 형성되는 실리콘 로드에 냉각 가스를 분사하는 냉각분사 노즐을 포함하며,상기 냉각분사 노즐은상기 로드 브릿지와 설정된 간격으로 이격된 하부 측방에서 냉각 가스를 분사하여,상향하는
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