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플라즈마 멸균기 및 플라즈마 멸균기의 과산화수소 기체 발생장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • A61L-002/14
  • A61L-002/20
  • H05H-001/46
출원번호 10-2015-0170057 (2015-12-01)
공개번호 10-2017-0064622 (2017-06-12)
등록번호 10-1756550-0000 (2017-07-04)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150170057
발명자 / 주소
  • 김태성 / 서울특별시 강남구 도산대로***길 **-* ***호 (청담동,이소주택)
  • 권대혁 / 경기도 수원시 팔달구 권광로 *** ***동 ****호 (우만동,월드메르디앙)
  • 민태기 / 서울특별시 서초구 신반포로 *** ***동 ****호 (반포동,반포자이아파트)
  • 안치성 / 경기도 수원시 권선구 권중로 *** ***동 ****호 (권선동,벽산아파트)
  • 손주현 / 대구광역시 달서구 이곡공원로*길 **, ***호
출원인 / 주소
  • 성균관대학교산학협력단 / 경기도 수원시 장안구 서부로 **** (천천동, 성균관대학교내)
대리인 / 주소
  • 조영현
심사청구여부 있음 (2015-12-01)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 발명은 플라즈마 멸균기 및 플라즈마 멸균기의 과산화수소 기체 발생장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 플라즈마 멸균기는 멸균챔버를 100torr 이상의 상압(준상압)으로 형성한 다음, 비활성 기체를 이용하여 플라즈마를 발생시키고, 발생된 플라즈마에 의해 과산화수소 기체로부터 OH 라디컬을 생성시킴으로써 멸균대상을 멸균시키며, 이때 비활성 기체를 이용하여 과산화수소 기체를 생성하는 것을 특징으로 한다.

대표청구항

멸균 공간을 제공하는 멸균 챔버;상기 멸균 챔버 내부를 상압 또는 준상압 상태의 약한 진공을 형성하는 진공펌프;상기 진공펌프에 의해 상기 멸균 챔버 내부에 약한 진공이 형성된 상태에서, 상기 멸균 챔버 내부로 비활성 기체를 공급하는 비활성 기체 공급부;상기 멸균 챔버 내부에 초고주파를 인가하여 비활성 기체 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부; 및상기 멸균 챔버 내부에 비활성 기체 플라즈마가 발생된 상태에서, 상기 비활성 기체의 압력으로 액체 상태의 과산화수소를 기화시켜 상기 멸균 챔버 내부로 과산화수소 기체를 공급하는 과산화수소

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 반도체 기판 세정공정용 반도체 제조장치 및 그를 이용한반도체 기판 세정공정 | 한동균, 이근택, 한용필, 고형호
  2. [일본] PLASMA STERILIZING TREATMENT APPARATUS AND PLASMA STERILIZING TREATMENT METHOD | SAWADA KOJI, ARAI KATSUAKI, TAGUCHI NORIYUKI, YAMAZAKI KEIICHI, NAKAZONO YOSHIYUKI, INOUE YOSHIMI
  3. [일본] PLASMA STERILIZATION DEVICE AND PLASMA STERILIZATION METHOD | KARASAWA HIROSHI, TAKANO MASAKI, WAKABAYASHI MAMORU, SAWADA KOJI

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 과산화수소를 이용한 고효율 플라즈마 멸균기 | 배준형, 박장식
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