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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0188534 (2015-12-29) | |
공개번호 | 10-2017-0078219 (2017-07-07) | |
등록번호 | 10-2498830-0000 (2023-02-07) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150188534 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-12-29) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 실리콘 질화막의 식각에 사용된 인산을 포함하는 식각액에 물을 공급하여 상기 식각액 중에 포함되는 플루오르화 화합물을 제거하는 단계를 포함하는 식각액의 정제 방법에 관한 것으로, 본 발명은 식각액 정제 공정 효율성을 증대시키고, 식각액의 수명을 늘릴 수 있다.
실리콘 질화막의 식각에 사용된 인산을 포함하는 식각액에 물을 공급하여 상기 식각액 중에 포함되는 플루오르화 화합물을 제거하는 단계를 포함하고,상기 물은 식각액 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부로 공급되고,상기 물은 식각액 200 cc에 대하여 0.2 내지 20 cc/min 유량으로 공급하고,상기 물 공급은 10 내지 90 ℃에서 10 내지 24 시간 동안 실시되고,상기 물 공급시, 질소기체 버블(N2 Bubble)을 추가로 공급하고,상기 질소기체 버블은 5 내지 10 L/min 유량으로 공급하는 것인 식각액의 정제 방
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