초록 ▼

웨이퍼의 처리 편차를 없애기 위해, 미소 쓰레기를 발생시키는 일 없이, 처리조 내에서 웨이퍼를 회전시킬 수 있는 웨이퍼 회전 장치를 제공한다.처리액을 수용하고, 처리액 내에 웨이퍼를 침지시킬 수 있는 처리액조(2)와, 처리액조(2) 내에서 상기 웨이퍼(W)의 하부 중간 부분을 유지시키며, 웨이퍼의 면(面)을 따른 방향으로 요동 가능하게 구성되어 있는 웨이퍼 받이대(6)와, 처리액조(2) 내의 웨이퍼 받이대(6)를 사이에 끼우도록 배치되어, 웨이퍼 받이대(6)에 대해 상대적으로 상하방향으로 이동함으로써 웨이퍼의 하부 양단 부분을 유지

웨이퍼의 처리 편차를 없애기 위해, 미소 쓰레기를 발생시키는 일 없이, 처리조 내에서 웨이퍼를 회전시킬 수 있는 웨이퍼 회전 장치를 제공한다.처리액을 수용하고, 처리액 내에 웨이퍼를 침지시킬 수 있는 처리액조(2)와, 처리액조(2) 내에서 상기 웨이퍼(W)의 하부 중간 부분을 유지시키며, 웨이퍼의 면(面)을 따른 방향으로 요동 가능하게 구성되어 있는 웨이퍼 받이대(6)와, 처리액조(2) 내의 웨이퍼 받이대(6)를 사이에 끼우도록 배치되어, 웨이퍼 받이대(6)에 대해 상대적으로 상하방향으로 이동함으로써 웨이퍼의 하부 양단 부분을 유지 가능하게 구성되어 있는 1세트(組)의 웨이퍼 가이드(7)와, 웨이퍼(W)를, 웨이퍼 가이드(7)에 유지시킨 상태로 웨이퍼 받이대(6)를 요동시킨 후 웨이퍼 받이대(6)와 웨이퍼 가이드(7)를 상대적으로 상하방향으로 이동시켜서 웨이퍼 받이대(6)로 되돌림으로써, 웨이퍼 받이대(6)에 있어서의 웨이퍼(W)의 지지 부분을 달라지게 하여 웨이퍼를 회전시킨다.

대표청구항 ▼

처리액을 수용하고, 상기 처리액 내에 웨이퍼를 침지시킬 수 있는 처리액조(處理液槽)와,상기 처리액조의 외부에 설치되어 지지하는 상기 웨이퍼의 중심축을 회전 중심으로 하여 상기 웨이퍼의 면(面)을 따른 방향으로 요동가능한 요동 레그와,상기 처리액조의 상방(上方)에서 상기 요동 레그에 연결되어, 상기 처리액조의 상방으로부터 상기 처리액조 내로 늘어뜨려 설치되며, 상기 웨이퍼의 주연(周緣) 하부 중간 부분을 유지(保持)시키는 웨이퍼 받이대(臺)와,상기 처리액조 내의 상기 웨이퍼 받이대를 상기 웨이퍼의 면을 따른 방향으로 사이에 끼우도록

처리액을 수용하고, 상기 처리액 내에 웨이퍼를 침지시킬 수 있는 처리액조(處理液槽)와,상기 처리액조의 외부에 설치되어 지지하는 상기 웨이퍼의 중심축을 회전 중심으로 하여 상기 웨이퍼의 면(面)을 따른 방향으로 요동가능한 요동 레그와,상기 처리액조의 상방(上方)에서 상기 요동 레그에 연결되어, 상기 처리액조의 상방으로부터 상기 처리액조 내로 늘어뜨려 설치되며, 상기 웨이퍼의 주연(周緣) 하부 중간 부분을 유지(保持)시키는 웨이퍼 받이대(臺)와,상기 처리액조 내의 상기 웨이퍼 받이대를 상기 웨이퍼의 면을 따른 방향으로 사이에 끼우도록 배치되고, 상기 웨이퍼 받이대에 대해 상대적으로 상하방향으로 이동함으로써 상기 웨이퍼의 주연 하부의 상기 웨이퍼 받이대에 의한 유지 부분보다 끝단측(端側)의 부분을 유지 가능하도록 구성되어 있는 1세트(組)의 웨이퍼 가이드를 구비하며,상기 웨이퍼 가이드는, 상기 웨이퍼의 하단부를 유지가능한 위치에 설치된 지지 부재를 갖고, 상기 웨이퍼를 유지시키고 있는 상기 웨이퍼 받이대가 제 1 방향으로 요동할 때, 상기 지지 부재는 상기 웨이퍼의 주연에 근접하도록 위치하는 동시에, 상기 웨이퍼 받이대로부터 상기 웨이퍼의 낙하를 방지하며, 상기 지지 부재가 상기 웨이퍼를 상기 웨이퍼 받이대로부터 수취(受取)한 상태에 있어서 상기 웨이퍼 받이대가 제 2 방향으로 요동한 후, 상기 웨이퍼 가이드는 상기 웨이퍼 받이대에 대해 상대적으로 상하방향으로 이동하여 상기 웨이퍼 받이대에 상기 웨이퍼를 되돌림으로써, 상기 웨이퍼 받이대에 있어서의 웨이퍼의 지지 부분을 달라지게 하여 상기 웨이퍼를 회전시키는, 웨이퍼 회전 장치.