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연합인증

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[한국특허] 무전해 구리 도금 용액
ELECTROLESS COPPER PLATING SOLUTION 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-018/38
  • C23C-018/40
출원번호 10-2015-7025803 (2015-09-18)
공개번호 10-2015-0136066 (2015-12-04)
등록번호 10-2162540-0000 (2020-09-28)
우선권정보 유럽특허청(EPO)(EP) 13161418.2 (2013-03-27)
국제출원번호 PCT/EP2014/055979 (2014-03-25)
국제공개번호 WO 2014/154702 (2014-10-02)
번역문제출일자 2015-09-18
DOI http://doi.org/10.8080/1020157025803
발명자 / 주소
  • 브뤼닝 독토어 프랑크 / 독일 ***** 베를린 라우머슈트라쎄 **
  • 벡 비르기트 / 독일 ***** 베를린 리브슈퇴켈벡 **
  • 랑함머 엘리자 / 독일 ***** 베를린 볼란크슈트라쎄 **
  • 에츠코른 독토어 요하네스 / 독일 ***** 보훔 암 호헨 블린크 **아
  • 메르슈키 독토어 미하엘 / 독일 ***** 베를린 오라닌슈트라쎄 ***
  • 슐체 외르크 / 독일 ***** 오라닌부르크 아데를루흐 **아
  • 로빈스키 크리슈티안 / 독일 ***** 비르켄베르더 클라이슈트슈트라쎄 **
출원인 / 주소
  • 아토테크더치랜드게엠베하 / 독일연방공화국데-*****베를린에라스무스스트라세**
대리인 / 주소
  • 특허법인코리아나
심사청구여부 있음 (2018-10-10)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은, - 구리 이온의 소스, - 환원제, 또는 환원제의 소스, 및 - 착화제로서, ⅰ) N,N,N',N'-테트라키스(2-하이드록시프로필)에틸렌디아민 또는 그의 염, 및 ⅱ) N'-(2-하이드록시에틸)-에틸렌디아민-N,N,N'-트리아세트산 또는 그의 염을 포함하는 조합물을 포함하는 무전해 구리 도금 용액 뿐만 아니라, 상기 용액을 이용하는 무전해 구리 도금 방법, 및 기판 도금을 위한 상기 용액의 용도에 관한 것이다.

대표청구항

- 구리 이온의 소스, - 환원제, 또는 환원제의 소스, 및 - 착화제로서, ⅰ) N,N,N',N'-테트라키스(2-하이드록시프로필)에틸렌디아민 또는 그의 염, 및 ⅱ) N'-(2-하이드록시에틸)-에틸렌디아민-N,N,N'-트리아세트산 또는 그의 염을 포함하는 조합물을 포함하고,상기 구리 이온에 대한 모든 착화제의 총 몰량의 비가 1:1 ~ 10:1 이고,착화제 ⅱ) 의 몰량에 대한 착화제 ⅰ) 의 몰량의 비가 1:0.1 ~ 1:2 인 것을 특징으로 하는 무전해 수성 구리 도금 용액.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [미국] Electroless copper plating solution | Miyazawa Osamu (Yokosuka JPX) Oka Hitoshi (Yokohama JPX) Tanaka Isamu (Yokosuka JPX) Matsuo Akira (Yokohama JPX) Yokono Hitoshi (Yokohama JPX) Nakagawa Nobuo (Yokohama JPX) Isogai Tokio (Fujisawa JPX
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  2. [미국] Formaldehyde-free autocatalytic electroless copper plating | Darken Jeffrey (Woking GB2)
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