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연합인증

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플라즈마 수처리 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C02F-001/467
  • C02F-001/32
  • C02F-001/461
  • C02F-001/48
  • C02F-001/72
  • C02F-001/78
  • H05H-001/46
출원번호 10-2016-0049828 (2016-04-25)
공개번호 10-2017-0121425 (2017-11-02)
등록번호 10-1918147-0000 (2018-11-07)
DOI http://doi.org/10.8080/1020160049828
발명자 / 주소
  • 홍용철 / 인천광역시 부평구 동수천로*번길 *, ***호 (부평동, 영진아트빌)
출원인 / 주소
  • 주식회사 엔팩 / 대전광역시 유성구 과학로 ***-***, 지하*층 ***호(어은동, 국가핵융합연구소 본관동)
대리인 / 주소
  • 장낙용; 이윤직; 박건우; 이현송; 최병철
심사청구여부 있음 (2016-04-25)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 밸러스트수(Ballast water), 화학 공장배수, 약품 공장배수, 식품 공장배수, 유지 공장배수, 펄프 공장배수, 기타 산업 배수, 하천수, 상수도, 등에 포함되는 유해 유기물 및 다이옥신류와 같은 생물난분해성 유기물 처리를 하기 위한 수중 방전 플라스마 수처리 장치에 관한 것으로 고효율 및 고속 수처리가 가능한 효과를 갖는다.

대표청구항

플라즈마제트 처리수 직접접촉 방식의 플라즈마 수처리 장치에 있어서,전원을 공급하는 전원공급부(100);상기 전원공급부에서 공급된 전원을 인가받는 1개 이상의 고전압전극(200);방전전극에 가스를 주입하는 가스공급부(300); 및상기 고전압전극을 내부에 포함하는 유전체관(400)을 포함하고,상기 유전체관의 외측에 형성되는 외부전극(500)을 포함하며,상기 고전압전극과 유전체관 사이의 공간에서 발생된 플라즈마가 배출되는 제트홀(600)을 포함하고,상기 제트홀은 상기 유전체관의 길이방향으로 소정의 간격으로 복수개가 배치되며, 상기 유전체

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 이온 발생 장치 및 이를 이용한 대기, 하수 및 폐수 정화방법 | 이세홍
  2. [한국] 수중 플라즈마 발생장치 및 방법 | 정순우, 윤여진, 장명옥, 윤명진, 강성현, 박효상, 우연근
  3. [한국] 폐수 처리 장치 및 폐수 처리 방법 | 정효수, 유영종, 손병구
  4. [한국] 방전을 이용한 수처리장치 | 정철규

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 수처리 저온 플라즈마 발생 장치 | 홍용철, 마숙활
  2. [한국] 플라즈마 수처리장치 | 김숙
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