초록 ▼

플라즈마를 피처리수에 접촉하고 안정적으로 장시간 피처리수를 정화하고, 수처리 플라즈마 발생 장치의 수율을 높이기 위한 수처리 플라즈마 발생 장치를 제공하고자 한다.본 발명의 실시예에 따른 수처리 플라즈마 발생 장치는 외면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 피처리수에 위치하는 외부유전체, 외부유전체의 내부에 위치하는 내부유전체, 내부유전체의 내부에 위치하고 유연성을 가지는 제1 유연전극, 그리고 제1 유연전극에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고 관통홀을 통과한 소스 가스에 의해 외부유전체에서 피처리수를 향한 방향으로 플라즈

플라즈마를 피처리수에 접촉하고 안정적으로 장시간 피처리수를 정화하고, 수처리 플라즈마 발생 장치의 수율을 높이기 위한 수처리 플라즈마 발생 장치를 제공하고자 한다.본 발명의 실시예에 따른 수처리 플라즈마 발생 장치는 외면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 피처리수에 위치하는 외부유전체, 외부유전체의 내부에 위치하는 내부유전체, 내부유전체의 내부에 위치하고 유연성을 가지는 제1 유연전극, 그리고 제1 유연전극에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고 관통홀을 통과한 소스 가스에 의해 외부유전체에서 피처리수를 향한 방향으로 플라즈마가 발생되고, 플라즈마는 피처리수를 정화할 수 있다.

대표청구항 ▼

외면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 피처리수에 위치하는 외부유전체,상기 외부유전체의 내부에 위치하는 내부유전체,상기 내부유전체의 내부에 위치하고 유연성을 가지는 제1 유연전극, 그리고상기 제1 유연전극에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고상기 관통홀을 통과한 상기 소스 가스에 의해 상기 외부유전체에서 상기 피처리수를 향한 방향으로 플라즈마가 발생되고, 상기 플라즈마는 상기 피처리수를 정화하고상기 피처리수는 접지 전극이고 상기 제1 유연전극은 상기 피처리수와 회로를 구성하고, 상기 전원공급부가 상기 제1 유연전극에 전원을

외면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 피처리수에 위치하는 외부유전체,상기 외부유전체의 내부에 위치하는 내부유전체,상기 내부유전체의 내부에 위치하고 유연성을 가지는 제1 유연전극, 그리고상기 제1 유연전극에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고상기 관통홀을 통과한 상기 소스 가스에 의해 상기 외부유전체에서 상기 피처리수를 향한 방향으로 플라즈마가 발생되고, 상기 플라즈마는 상기 피처리수를 정화하고상기 피처리수는 접지 전극이고 상기 제1 유연전극은 상기 피처리수와 회로를 구성하고, 상기 전원공급부가 상기 제1 유연전극에 전원을 인가하면 상기 제1 유연전극은 상기 피처리수와 접지되어 상기 외부유전체에 공급된 소스 가스에 의해 발생된 상기 플라즈마는 상기 관통홀을 통과하여 상기 피처리수를 정화하고상기 내부유전체는 일측 단부가 막힌 형상을 가지고, 상기 외부유전체는 상기 내부유전체를 감싸며 일측 단부가 막힌 형상을 가지고 상기 내부유전체와 상기 외부유전체가 막힌 측면을 고정한 상태에서 상기 제1 유연전극을 삽입하는 수처리 플라즈마 발생 장치.