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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0076320 (2016-06-20) | |
공개번호 | 10-2017-0001603 (2017-01-04) | |
우선권정보 | 미국(US) 14/750,714 (2015-06-25) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160076320 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
이 개시에 따르면, 플라즈마 프로세싱 챔버 내에서 사용되는 폴리머 재료들 상에 플라즈마 내성 코팅들을 증착하기 위한 장치 및 방법을 포함한, 몇몇의 발명들이 제공된다.특정한 예에서, 이러한 코팅은 정전 척의 일부분 상에 행해질 수도 있고, 여기서 폴리머 재료는 척 베이스와 세라믹 상단 플레이트 사이의 접착제를 둘러싸는 비드이다.
플라즈마 프로세싱 챔버를 위한 정전 척에 있어서,알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함한 베이스;상기 베이스에 본딩되고 (bonded), 웨이퍼를 홀딩하기 위한 세라믹 상단 플레이트;적어도 하나의 노출된 부분을 가진, 상기 베이스와 상기 세라믹 상단 플레이트 사이의 폴리머 재료; 및상기 적어도 하나의 노출된 부분 상의 플라즈마 내성 원자층 증착 코팅을 포함하는, 플라즈마 프로세싱 챔버를 위한 정전 척.
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