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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2016-0080926 (2016-06-28) | |
| 등록번호 | 10-1712508-0000 (2017-02-27) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020160080926 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2016-06-28) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명의 일실시예는 나노 크기의 합성골 이식재료를 준비하는 제1 단계 및 상기 준비된 이식재료를 압축성형 및 소결하여 지지체를 형성하는 제2 단계를 포함하는 합성골 이식재용 다공성 지지체의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 다른 일실시예는 나노 크기의 합성골 이식재료 및 폴리머를 준비하는 제1 단계, 상기 준비된 이식재료 및 폴리머를 압축성형 및 소결하여 지지체를 형성하는 제2 단계; 및 상기 지지체를 세척하여 상기 폴리머를 제거하는 단계를 포함하는 합성골 이식재용 다공성 지지체의 제조방법에 관한 것이다.
나노 크기의 합성골 이식재료를 준비하는 제1 단계; 및상기 준비된 이식재료를 압축성형 및 소결하여 기공을 포함한 지지체를 형성하는 제2 단계;를 포함하고,상기 나노 크기의 합성골 이식재료의 입자 형태는 구상 및 침상 중 적어도 하나 이상의 형태를 가지며,상기 제2 단계는 50 내지 800 MPa의 압력 및 1000oC 이하의 온도에서 실시되고,상기 지지체의 표면의 형상은 구상 및 침상 중 적어도 하나 이상의 형태를 포함하며,상기 기공은 100nm 이하의 나노 크기를 갖는,나노 크기의 기공을 포함하는 합성골 이식재용 다공성 지지체의
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