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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2016-0088197 (2016-07-12) | |
| 공개번호 | 10-2018-0007227 (2018-01-22) | |
| 등록번호 | 10-2133713-0000 (2020-07-08) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020160088197 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2018-12-03) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것으로, 기판 처리 방법은, 챔버의 내부에 기판을 배치하는 기판 배치단계와, 챔버의 내부에서 기판의 상면에 마스크부재를 배치하는 마스크부재 배치단계와, 기판에 대한 마스크부재의 배치 높이를 조절하여 기판에 형성된 소자를 덮는 봉지막을 형성하는 봉지막 형성단계를 포함하여 구성되어, 기판에 대한 마스크부재의 배치 높이를 조절하여 다양한 구조의 봉지막을 형성하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
기판 처리 방법에 있어서,챔버의 내부에 기판을 배치하는 기판 배치단계와;상기 챔버의 내부에서 상기 기판의 상면에 마스크부재를 배치하는 마스크부재 배치단계와;상기 기판에 대한 상기 마스크부재의 배치 높이를 조절하여 상기 기판에 형성된 소자를 덮는 하나 이상의 봉지막을 형성하는 봉지막 형성단계를;포함하여 구성되고, 상기 봉지막 형성단계는 하나의 봉지막을 형성하는 공정 중에 상기 기판에 대한 상기 마스크 부재의 배치 높이를 점진적으로 변화시켜 증착 면적이 연속적으로 조절되게 하는 높이 조절 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리
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