최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)원익아이피에스 |
---|---|
연구책임자 | 양호식 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2017-07 |
과제시작연도 | 2016 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO201800040244 |
과제고유번호 | 1711041311 |
사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발 |
DB 구축일자 | 2018-09-22 |
키워드 | AMOLED.ICP.Plasma.GWP.Dry Etcher.ESC.Display. |
핵심기술
[2세부]
대체 Gas 사용 AMOLE용 8세대급 고주파 유도결합 플라즈마 건식식각 공정 기술
최종목표
[2세부]
AMOLED용 SF6 대체 Gas 적용과 고밀도 플라즈마 구현을 위한 식각공정 개발 (식각률 SiO2 > 3000Å/min, Al2O3 > 800Å/min)
고밀도 플라즈마 구현 가능한 8세대급 ICP Dry Etcher 장비 및 공정 개발 (균일도 : < 7%)
SF6
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.