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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0094061 (2016-07-25) | |
공개번호 | 10-2018-0011565 (2018-02-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160094061 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
3차원 전자 회로의 배선의 인시츄 소결 방법이 제공된다. 이 방법은 3차원 구조체의 표면 상에 전도성 잉크로 전도성 배선을 형성하는 것 및 전도성 배선을 형성하는 것과 동시에 선택적 소결 에너지원을 이용하여 전도성 배선을 선택적으로 인시츄 건조 및 소결하는 것을 포함한다.
3차원 구조체의 표면 상에 전도성 잉크로 전도성 배선을 형성하는 것; 및상기 전도성 배선을 형성하는 것과 동시에 선택적 소결 에너지원을 이용하여 상기 전도성 배선을 선택적으로 인시츄 건조 및 소결하는 것을 포함하는 3차원 전자 회로의 배선의 인시츄 소결 방법.
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