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란탄족 물질 도핑 기반의 고 전도성 유연 투명전극 및 이의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01B-005/14
  • B32B-015/082
  • B32B-015/09
  • B32B-017/06
  • B32B-037/15
  • B32B-009/00
  • B32B-009/04
출원번호 10-2016-0115595 (2016-09-08)
공개번호 10-2018-0028205 (2018-03-16)
등록번호 10-1924070-0000 (2018-11-26)
DOI http://doi.org/10.8080/1020160115595
발명자 / 주소
  • 김경국 / 경기도 수원시 영통구 영통로***번길 ***, ****동 ***호 (망포동, 방죽마을영통뜨란채)
  • 김동준 / 서울특별시 동작구 상도로 ***-*, ***동 ****호 (상도동, 상도엠코타운 애스톤파크)
  • 연규재 / 서울특별시 양천구 월정로**길 **, ***호 (신월동)
  • 정소애 / 서울특별시 서초구 방배로 ***, 마동 ****호 (방배동, 방배삼호아파트)
  • 최현준 / 인천광역시 계양구 계양문화로 ***, ***동 ****호 (용종동, 초정마을하나아파트)
출원인 / 주소
  • 한국산업기술대학교산학협력단 / 경기도 시흥시 산기대학로 *** (정왕동, 한국산업기술대학교)
대리인 / 주소
  • 특허법인 무한
심사청구여부 있음 (2016-09-08)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 발명은, 란탄족 물질 도핑 기반의 고 전도성 유연 투명전극 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로, 기판; 및 상기 기판 상에 형성되고, 국부적으로 나노결정 닷이 분포된 란탄족 물질을 도핑한 비정질 박막; 을 포함하는, 란탄족 물질 도핑 기반의 고 전도성 유연 투명전극 및 이의 제조방법에 관한 것이다.본 발명은, 플렉서블 또는 웨어러블 소자에 적용 가능한 유연성과 전기적 특성을 갖는, 고 전도성 유연 투명전극을 제공할 수 있다.

대표청구항

기판; 및 상기 기판 상에 형성되고, 국부적으로 나노결정 닷이 분포된 란탄족 물질을 도핑한 비정질 산화물 반도체 박막; 을 포함하고, 상기 란탄족 물질은, Sm, Gd 또는 이 둘을 포함하고,비정질 란탄족 물질 대 상기 나노결정 닷은, 1:0.0001 내지 0.1의 중량비로 포함되고,상기 나노결정 닷은, 1 nm 내지 20 nm의 입경을 갖고, 80 % 이상의 광투과도 및 10 -4 Ω·cm 이하의 전기저항을 갖는 것인, 란탄족 물질 도핑 기반의 고 전도성 유연 투명전극.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 산화물 기반의 고 유연성 투명전극 | 김경국, 최현준, 김택균, 유호돌, 장웅, 이병길, 김환삼
  2. [한국] 전도성 박막 | 박희정, 손윤철, 정도원, 이우진, 최재영
  3. [일본] AMORPHOUS OXIDE SEMICONDUCTOR THIN-FILM, ITS FORMING METHOD, MANUFACTURING PROCESS OF THIN-FILM TRANSISTOR, FIELD EFFECT TRANSISTOR, LIGHT-EMITTING DEVICE, DISPLAY AND SPUTTERING TARGET | YANO KIMINORI, INOUE KAZUYOSHI
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