초록

본 발명에 따른 수처리 장치는, 하우징의 내부에 전원 공급부, 플라즈마 방전부, 가스 공급부 및 반응기가 모두 구비됨으로써, 구조가 간단하여 사용이 간편하고 컴팩트화가 가능한 이점이 있다. 또한, 반응기의 내부에 다공성 플레이트가 구비됨으로써, 피처리수나 가스를 분사시키는 효과를 얻을 수 있다. 또한, 반응기의 내부에 복수의 비드들이 구비됨으로써, 피처리수와 가스의 접촉 면적과 반응시간이 증가하여, 처리 효과가 향상될 수 있다.

대표청구항 ▼

하우징의 내부 일측에 구비된 전원 공급부와;상기 하우징의 내부에 구비되고, 상기 전원 공급부로부터 전원을 공급받아 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부와;상기 하우징의 내부에 구비되어, 상기 플라즈마 방전부로 가스를 공급하는 가스 공급부와;상기 하우징에 구비되고, 일측에 형성되어 상기 플라즈마 방전부에서 방전된 가스가 유입되는 가스 유입구와, 타측에 형성되어 피처리수가 유입되는 피처리수 유입구와, 상기 가스 유입구와 상기 피처리수 유입구 사이에 다공성 플레이트에 의해 구획되어 상기 유입된 가스와 상기 피처리수가 만나서 반응하도록 형

하우징의 내부 일측에 구비된 전원 공급부와;상기 하우징의 내부에 구비되고, 상기 전원 공급부로부터 전원을 공급받아 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부와;상기 하우징의 내부에 구비되어, 상기 플라즈마 방전부로 가스를 공급하는 가스 공급부와;상기 하우징에 구비되고, 일측에 형성되어 상기 플라즈마 방전부에서 방전된 가스가 유입되는 가스 유입구와, 타측에 형성되어 피처리수가 유입되는 피처리수 유입구와, 상기 가스 유입구와 상기 피처리수 유입구 사이에 다공성 플레이트에 의해 구획되어 상기 유입된 가스와 상기 피처리수가 만나서 반응하도록 형성된 수처리실을 포함하고, 상기 수처리실의 내부에는 상기 피처리수와 상기 가스와 반응하지 않고 상기 피처리수와 상기 가스의 접촉 면적과 반응시간을 증대시키는 비드들이 채워진 반응기와;상기 하우징의 측면에 구비되어, 상기 하우징의 내부에서 발생된 열기를 외부로 방출하기 위한 냉각팬을 포함하는 플라즈마를 이용한 수처리 장치.