[특허]산화텅스텐 수화물 나노입자의 제조방법

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산화텅스텐 수화물 나노입자의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C01G-041/02 C09D-001/02 C09D-001/04
출원번호	10-2016-0121614 (2016-09-22)
공개번호	10-2018-0032414 (2018-03-30)
등록번호	10-2058140-0000 (2019-12-16)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020160121614
발명자 / 주소	성은규 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학 기술연구원 변원배 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학 기술연구원 오명환 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학 기술연구원 한재성 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학 기술연구원
출원인 / 주소	주식회사 엘지화학 / 서울특별시 영등포구 여의대로 *** (여의도동)
대리인 / 주소	유미특허법인
심사청구여부	있음 (2018-05-29)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은 산화텅스텐 수화물 나노입자의 제조방법 및 상기 산화텅스텐 수화물 나노입자를 함유한 분산졸을 이용하여 형성된 산화텅스텐 수화물 박막에 관한 것이다.보다 구체적으로, 본 발명의 산화텅스텐 수화물 나노입자는 암모늄 텅스테이트, 무기산 및 특정 첨가제를 수계 및 상온에서 반응시켜 제조함으로써, 종래보다 전기 변색 효율이 우수하고, 50nm이하의 구형 나노 분말을 상온에서 수시간 내에 간단한 방법으로 제조가 가능하므로 공정성과 작업성을 향상시킬 수 있다.

대표청구항

수계 및 상온 조건 하에,암모늄 텅스텐염 수화물, 산 및 첨가제를 반응시키는 단계;를 포함하며,상기 첨가제는 시트르산, 타르타르산, 아세트산, 락트산, 포믹산, 옥살산, 글리콜산, 및 푸말산으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 사용하며,BET 비표면적이 15 내지 100 (㎡/g)이고 50 nm 이하의 구형 분말로 제조되는,산화텅스텐 수화물 나노입자의 제조방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

[미국] Preparation of tungsten oxide | Bulian, Christopher, Dye, Robert, Son, Steven, Jorgensen, Betty, Perry, W.
상세보기
[국제] A METHOD FOR PREPARING NANOCRYSTALLINE TRANSPARENT FILMS OF TUNGSTEN OXIDE | ANGIULI, Fabio, ARGAZZI, Roberto, CARAMORI, Stefano, BIGNOZZI, Carlo Alberto
상세보기

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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