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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0122762 (2016-09-25) | |
등록번호 | 10-1749303-0000 (2017-06-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160122762 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-09-25) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
1. 기술분야본 발명은 진공챔버의 틈새 세척용 장치에 관한 것으로, 상세하게는, 다양한 반도체 장치의 증착공정이 이루어지는 진공챔버의 틈새(이음새) 부위에 흡착되어 잔존하는 케미컬 오염물을 흡입하여 제거하는 진공챔버의 틈새 세척용 장치에 관한 것이다. 2. 구성 및 효과본 발명은 고압을 분사하여 세척하는 고압 분사 방식이 아닌, 진공펌프를 이용한 흡입 방식으로 진공챔버의 틈새 부위에 흡착된 케미컬 오염물을 집진탱크로 흡입하여 제거함으로써 진공챔버의 틈새 부위에 흡착된 케미컬 오염물을 효과적으로 제거할 수 있다.
'ㅁ'자 또는 'ㅂ'자 형상으로 이루어진 수평 프레임(111)이 구비되고, 수평 프레임(111)의 상부에 수직방향 '∩'자 형상으로 설치되는 한 쌍의 수직 프레임(112)이 구비되며, 수평 프레임(111)의 하부에 설치되어 수평 프레임(111)을 이동시키는 캐리어(113)가 구비된 받침대(11);상기 받침대(11)의 수직 프레임(112) 상부에 설치된 집진탱크(12);상기 받침대(11)의 수평 프레임(111) 상부에 설치되고, 연결호스(15)가 상기 집진탱크(12)에 연결되어 작동시 집진탱크(12)의 내부 공기를 흡입하여 진공상태를
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