최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2016-0124284 (2016-09-27) | |
공개번호 | 10-2018-0034139 (2018-04-04) | |
등록번호 | 10-2092026-0000 (2020-03-17) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160124284 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2018-01-30) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 음이온성 계면활성제 화합물, 비이온성 계면활성제, 알칼리성 화합물 및 물을 포함하는 포토레지스트 현상액 조성물 및 상기 포토레지스트 현상액 조성물을 이용하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 포토레지스트 현상액 조성물은 경시 안정성과 현상력이 우수하며 소포기능이 우수하다.
하기 화학식 I의 화합물, 비이온성 계면활성제로서 하기 화학식 II의 화합물, 알칼리성 화합물 및 물을 포함하는 포토레지스트 현상액 조성물: [화학식 I] [화학식II]상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -OM, 탄소수 1 내지 18의 알킬기 또는 알콕시기, 페놀기, 또는 탄소수 5 내지 8의 고리형 알킬기이고, R1과 R2 중 적어도 하나는 -OM 이며,R3는 수소, 탄소수 1 내지 18의 알킬기 또는 알콕시기, 탄소수 1 내지 18의 알킬기로 치환된 페닐기 또는 탄소수 5 내지 8의 고리형 알킬기이고,M은 수소, 암모
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.