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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2016-0147539 (2016-11-07) | |
| 공개번호 | 10-2017-0015853 (2017-02-09) | |
| 등록번호 | 10-2175253-0000 (2020-11-02) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020160147539 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2020-06-17) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 유도 결합 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 용기의 유전체 상판 상에 배치되고 일정한 반경을 가지는 내측 안테나; 전기적으로 병렬 연결되고 상기 진공 용기의 상기 유전체 상판 상에 배치되고 상기 내측 안테나의 외곽에 배치된 복수의 외측 안테나; 상기 내측 안테나와 상기 외측 안테나에 전력을 각각 분배하는 전력 분배부; 및 상기 전력 분배부를 통하여 상기 내측 안테나와 상기 외측 안테나에 전력을 제공하는 RF 전원;을 포함한다. 상기 외측 안테나는 상기 내측 안테나의 중심축에서 일정한 반경의 원주 상에 일정한
진공 용기의 유전체 상판 상에 배치되고 일정한 반경을 가지는 내측 안테나;전기적으로 병렬 연결되고 상기 진공 용기의 상기 유전체 상판 상에 배치되고 상기 내측 안테나의 외곽에 배치된 복수의 외측 안테나;상기 내측 안테나와 상기 외측 안테나에 전력을 각각 분배하는 전력 분배부;및상기 전력 분배부를 통하여 상기 내측 안테나와 상기 외측 안테나에 전력을 제공하는 RF 전원;을 포함하고,상기 외측 안테나들 각각은 상기 내측 안테나의 중심축에서 일정한 반경의 원주 상에 일정한 간격으로 배치되고,상기 외측 안테나 각각은 제1 곡률 반경을 가지
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