최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2016-0167227 (2016-12-09) | |
공개번호 | 10-2018-0066907 (2018-06-20) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160167227 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2016-12-09) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 화학공정에서 발생되는 산성가스 또는 반도체 제조 공정 중 etching 공정에서 배출되는 산 배기가스 (AlCl3, BCl3, Cl2, HCl, HF) 등을 제거를 위해 유용하게 사용될 수 있다. 본 흡착제는 Ni/Cu/Zn 수산화물, 탄산암모늄, 수산화알루미늄 그리고 규조토 등으로 구성되어 있다. 산 배기가스 제거용 흡착제의 양산 및 제품화를 위해 다양한 성형 방법을 설계 하였으며 검토 결과 1.0 ~ 5.0 mm 직경 크기의 흡착 또는 반응의 펠렛 형태의 압출 방법으로 제조할 수 있다. CT-150에 의한 산 배기가스
전이금속산화물 또는 전이금속수산화물이 암모니아 착염물을 형성시켜 압출 성형하여 제조된 산 배기가스 제거를 위한 흡착제
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.