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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-7020025 (2016-07-21) |
공개번호 | 10-2016-0102277 (2016-08-29) |
등록번호 | 10-2179365-0000 (2020-11-10) |
우선권정보 | 미국(US) 61/920,456 (2013-12-23);미국(US) 14/571,000 (2014-12-15) |
국제출원번호 | PCT/US2014/071478 (2014-12-19) |
국제공개번호 | WO 2015/100162 (2015-07-02) |
번역문제출일자 | 2016-07-21 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020167020025 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-12-18) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
비접촉 웨이퍼 척킹 장치는, 웨이퍼 척과, 상기 웨이퍼 척의 일부에 연결된 그리퍼 어셈블리를 포함한다.웨이퍼 척은, 웨이퍼 척의 표면 위의 웨이퍼를 상승시키기 위하여 적합한, 웨이퍼 척의 표면을 가로지른 가압 가스 영역들을 생성시키도록 구성된 가압 가스 소자들을 포함한다.웨이퍼 척은, 가압 가스 영역들보다 낮은 압력을 갖는, 웨이퍼 척의 표면을 가로지른 감압 영역들을 생성시키도록 구성된 진공 소자들을 더 포함한다.감압 영역들은, 웨이퍼 척으로의 접촉없이 웨이퍼 척 위의 웨이퍼를 고정시키는 데 적합하다.본 척킹 장치는, 웨이퍼 척을
웨이퍼의 비접촉 척킹을 위한 장치에 있어서, 웨이퍼 척으로서, 상기 웨이퍼 척은, 상기 웨이퍼 척의 표면 위의 웨이퍼를 상승시키는 데 적합한, 상기 웨이퍼 척의 표면을 가로지른 하나 이상의 가압 가스 영역을 생성시키도록 구성된 하나 이상의 가압 가스 소자를 포함하고, 상기 웨이퍼 척은, 상기 웨이퍼 척의 표면을 가로지른 하나 이상의 감압 영역을 생성시키도록 구성된 하나 이상의 진공 소자를 더 포함하고, 상기 감압 영역은, 상기 가압 가스 영역보다 낮은 압력을 가지며, 상기 하나 이상의 감압 영역은, 상기 웨이퍼 척으로의 접촉없이 상
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