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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0047213 (2017-04-12) | |
공개번호 | 10-2017-0117884 (2017-10-24) | |
등록번호 | 10-1885995-0000 (2018-07-31) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2016-080899 (2016-04-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170047213 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2017-04-12) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
[과제] 본 발명은, ArF 엑시머 레이저광, EB, EUV 등의 고에너지선을 광원으로 한 포토리소그래피에 있어서, 산 확산이 작고, 고감도 또한 고해상성이며, MEF, LWR이나 CDU 등의 리소그래피 성능의 밸런스가 우수하고, 또한 상용성이 우수하여 디펙트가 발현되기 어려운 화학 증폭형 레지스트 조성물에 사용되는 단량체 등을 제공하는 것을 목적으로 한다.[해결 수단] 하기 식 (1)로 표시되는 단량체.
하기 식 (1)로 표시되는 단량체.(식 중, Z는 하기 식 (2) 또는 (3')으로 표시되는 중합성기를 나타낸다. (식 중, R1은 수소 원자, 메틸기, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다. 파선은, 식 (1) 중의 L3과의 결합수를 나타낸다.)L1은 카르보닐 결합 또는 술포닐 결합을 나타낸다. L2는 단결합, 에테르 결합 또는 에스테르 결합을 나타낸다. L3은 단결합, 에틸렌기 또는 하기 식 (a) 내지 (d) 중 하나로 표시되는 기를 나타낸다.A1은 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프
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