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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0061558 (2017-05-18) | |
공개번호 | 10-2017-0131259 (2017-11-29) | |
등록번호 | 10-2325604-0000 (2021-11-08) | |
우선권정보 | 미국(US) 62/339,696 (2016-05-20);미국(US) 15/595,788 (2017-05-15) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170061558 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-05-15) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
기화된 반응물질 및 캐리어 가스의 일정한 전체 플로우 레이트를 유지하면서 기화된 반응물질의 플로우 레이트의 신속한 시프트들을 허용하는 기화기 시스템이 제공된다.
반도체 프로세싱 툴의 컴포넌트 (component) 로 증기를 공급하기 위한 장치에 있어서,제 1 앰플의 제 1 내부 볼륨 내에 제 1 양의 반응물질을 수용하도록 구성된 상기 제 1 앰플;상기 제 1 내부 볼륨과 유체로 연통하는 제 1 캐리어 가스 유입부;상기 제 1 내부 볼륨과 또한 유체로 연통하는 제 1 증기 유출부;제 1 음속 플로우 제한기;상기 제 1 앰플과 상기 제 1 음속 플로우 제한기 사이에 위치된 상기 제 1 증기 유출부의 위치에서 압력을 측정하도록 구성된 압력 센서;상기 제 1 증기 유출부와 유체로 연통하는 제 1
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